行业互联网|被挤下芯片王座的英特尔，能否涅槃重生？( 三 )
作为摩尔定律的提出者和践行者 ， 英特尔一直以来在晶体管技术上不断变革创新 ， 比如90nm时代的应变硅、45nm时代的高K金属栅极、22nm时代的FinFET立体晶体管 。
即便是饱受争议的14nm工艺 ， Intel也在一直不断改进 ， 通过各种技术的加入 ， 如今的加强版14nm在性能上相比第一代已经提升了超过20% ， 堪比完全的节点转换 。
本文插图
SuperFin在技术层面相当复杂的 ， 主要技术特性有：
1、增强源极和漏极上晶体结构的外延长度 ， 从而增加应变并减小电阻 ， 以允许更多电流通过通道 。
2、改进栅极工艺 ， 以实现更高的通道迁移率 ， 从而使电荷载流子更快地移动 。
3、提供额外的栅极间距选项 ， 可为需要最高性能的芯片功能提供更高的驱动电流 。
4、使用新型薄壁阻隔将过孔电阻降低了30％ ， 从而提升了互连性能表现 。
5、与行业标准相比 ， 在同等的占位面积内电容增加了5倍 ， 从而减少了电压下降 ， 显著提高了产品性能 。
结语
笔者认为 ， 关于此次英特尔重构FinFET工艺 ， 或许是与英特尔和中科院的侵权案有关 ， 英特尔对于FINFET工艺的重构 ， 或是为绕开中科院的专利技术 ， 从而继续将工艺制成向前推进 。 但笔者在看到SuperFin的工艺提升后 ， 不得不惊叹 ， 英特尔正充分利用其独特的优势 ， 提供标量、矢量、矩阵和空间架构结合的解决方案 ， 广泛部署于CPU、GPU、加速器和FPGA中 。
此次英特尔新工艺带来的性能提升 ， 可以一扫英特尔多日制程迭代不利消息的阴霾 ， 我们也从中看到了7nm的曙光 。 但是尽管如此 ， 专利侵权问题依旧要重视起来 ， 以和谐共赢的形式共同发展 ， 求得双赢 。
END
【行业互联网|被挤下芯片王座的英特尔，能否涅槃重生？】本刊独家稿件 文／MS
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