行业互联网|被挤下芯片王座的英特尔,能否涅槃重生?
2020年 , 这家世界级的龙头厂商——英特尔 , 成为业界关注的焦点 , 自英特尔宣布将其7nm工艺制程的时间推迟后 , 又面临首席技术工程师离职、被诉侵权技术专利、市场分额被英伟达反超等热闻 。
这对于一家伟大的芯片设计、制造和销售公司来说无疑是巨大的失败 。 最近 , 英特尔发布的一项新技术震惊业界 , 此举大有虎贲龙镶、飞燕还巢之势 , 也让我们看到了英特尔重登“王座”的希望 。
这家拥有世界级影响的“蓝色巨兽” , 在跨越了一个世纪之久的发展历程中 , 也有着诸多跌宕起伏的故事 。 一切 , 要从一则影响信息产业近百年的“金科玉律”说起”......
戈登·摩尔与摩尔定律
在IT行业 , 有一则“神话”般的定律 。 整个信息产业几乎都在按照此定律 , 以指数方式领导着整个经济发展的步伐 。 这个定律就是“摩尔定律” , 而定律的发现者正是世界头号CPU生产商Intel公司的创始人之一——戈登·摩尔 。
摩尔定律是指 , 当价格不变时 , 集成电路上可容纳的元器件的数目 , 约每隔18-24个月增加一倍 , 性能提升一倍 。 换言之 , 每一美元所能买到的电脑性能 , 将每隔18-24个月翻一倍以上 。 这一定律揭示了信息技术进步的速度。
随着PC在全球范围内获得的巨大成功 , 提供PC核心部件的Intel从一个存储器制造商成长为一个更加辉煌的芯片制造商 。 戈登·摩尔正是这场变革和进步的最大推动者和胜利者 。
行业的“金科玉律”遭遇瓶颈
相关报道显示 , 2004年后 , 这套几十年来半导体行业遵循的金科玉律 , 越来越凸显其局限性 , 最突出的表现便是各厂商近年来被用户吐槽的“挤牙膏”行为 。
行业专家曾指出 , 摩尔定律成就了各种技术变革 , 让计算机的底层元件遵从此定律整整50年 。 然而 , 近年来业界对摩尔定律的怀疑声连绵不断 , 摩尔定律节奏放缓是不置可否的事实 , 其变化给半导体产业带来了诸多不确定性 。 曾有业界人士断言到 , 未来的摩尔定律会愈发衰败 , 继而逐渐消失 。
救命稻草——FINFET技术
相关文献显示 , FinFET是一种称之为鳍式场效晶体管的互补式金氧半导体晶体管 。 闸长已可小于25奈米 。 该项技术的发明人是加州大学伯克利分校的胡正明教授 。 Fin是鱼鳍的意思 , FinFET命名根据晶体管的形状与鱼鳍的相似性 。
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胡正明教授1968年在台湾国立大学获电子工程学士学位 , 1970年和1973年在伯克利大学获得电子工程与计算机科学硕士和博士学位 。 现为美国工程院院士 。 2000年凭借FinFET获得美国国防部高级研究项目局最杰出技术成就奖 。 他研究的BSIM模型已成为晶体管模型的唯一国际标准 , 培养了100多名学生 , 许多学生已经成为这个领域的大牛 , 曾获Berkeley的最高教学奖;于2001~2004年担任台积电的CTO 。
为了让摩尔定律延续到更小的器件尺度 , 学术界和工业界在不同的材料、器件结构和工作原理方面的探索一直在进行中 。 探索的问题之一是晶体管的闸极设计 。 随着器件尺寸越来越小 , 能否有效的控制晶体管中的电流变得越来越重要 。
从亚微米工艺, 到后来的90nm工艺所代表的深亚微米时代 , 业内一直按照摩尔定律 , 稳步的发展 。 在65nm工艺的晶体管中的二氧化硅层已经缩小仅有5个氧原子的厚度了 。 作为阻隔栅极和下层的绝缘体 , 二氧化硅层已经不能再进一步缩小了 , 否则产生的漏电流会让晶体管无法正常工作 。
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然而在28nm之后 , 人们发现 , 如果继续采用传统的Planar结构 , 摩尔定律难以为继 。
这时候 , 重要到了必须采用一种新结构的时刻了 , 继而目光便放到了这种非常有前途的结构上 , 也就是现在赫赫有名的FinFET结构 。
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