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北青社区直播李冰：挥洒青春热血，打造中国品牌的“隐形冠军”


【顺义人才讯】一个国家若想取得出口成功 ， 需要大公司 ， 但是如果想做到表现超群 ， 必须依靠那些拥有强大国际竞争力的中小企业 ， 后者就是“隐形冠军” 。
北京科华作为国内光刻胶的旗舰企业 ， 用十五年的努力 ， 通过自主创新填补了国内光刻胶的多项空白 ， 更是用十五年的发展赶上了国外二十多年的成果 。

北青社区直播李冰：挥洒青春热血，打造中国品牌的“隐形冠军”
本文插图

李冰作为这家“隐形冠军”企业的首席科学家 ， 他主导公司产品路线的制定以及下一代光刻技术基础研发方向 ， 致力于从技术层面将科华推向世界一流光刻胶企业 。 他的贡献获得了社会和业界认可 ， 2019年获评北京市顺义区优秀青年荣誉称号 。
少年辛苦终身事 ， 莫向光阴惰寸功
2007年 ， 李冰毕业于清华大学高分子材料科学与工程专业 。 回顾求学经历 ， 学习专业是人生的一道风景线 。 在读研期间 ， 他对专业课程求知若渴 ， 每天都早早来到实验室 ， 查文献做笔记 ， 还经常到图书馆借阅大量书刊杂志 ， 拓展知识面 ， 了解学术前沿 ， 时刻追踪材料科学相关领域的最新学术资讯 ， 就连节假日都是如此 。
李冰说：“随着人类进入新世纪和科学的发展 ， 无论是工业领域、建筑领域、医用领域还是航空领域 ， 材料学都面临着技术突破和重大产业发展机遇 。 在清华材料系学习 ， 最大的感受就是材料这个学科很有前景 ， 很有生命力 ， 有许多有趣的问题等待着有我去探索 。 ”
不忘初心 ， 不负韶华

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清华毕业后 ， 李冰加入北京科华微电子材料有限公司 ， 从事光刻胶的研究与开发 。
光刻胶被称为是半导体制造业的血液 ， 是芯片制造极其重要的原材料 ， 也是先进半导体工艺的决定因素之一 。 目前 ， 世界上最先进的光刻胶制造技术被美国及日本掌握 ， 中国在这一领域仍然任重而道远 。
在李冰看来 ， 做科研最重要的环节便是要紧跟学科前沿 ， 不断攀登学术高地 。 做科学研究是不断掌握旧知识 ， 并总结新知识的过程 ， 这个过程需要阅读大量的文献 ， 提出想法或假设 ， 不断修正实验目的、完善实验方案 ， 通过实验设计、数据采集、论文撰写、讨论修改等 ， 最终与客户交流分享 。
“当人们置身于科华技术设备先进的现代化厂区 ， 谁能想象十多年前科华从零起步历尽艰辛的景象？”李冰说 。 “刚开始真的不容易 ， 研究出来样品给客户送过去 ， 有些客户都不给我们见面的机会 ， 更别提了解我们的产品 。 这让我们更加意识到,必须有自己的过硬产品 ， 有自己的创新 。 创业之路,有多艰辛,唯有尝试过的人才懂得其中的苦辣酸甜 。 既然选择了远方,就必须风雨兼程,在高科技激烈的竞争中,惟创新者进,惟创新者强 。 ”
经过数年的钻研,李冰对客户的芯片制程及光刻胶应用工艺已到达非常熟悉的程度 ， 他凭借扎实牢固的化学知识和熟知光刻胶的工艺应用 ， 在光刻胶产品研发过程打通了原料合成、配方优化、工程化设计及稳定生产、产品应用等环节 ， 从技术上突破了国外限制 ， 填补了国内空白 ， 积累了丰富的光刻胶研究与开发经验 。
李冰作为主要负责人参与公司承担的国家02重大专项《248nm光刻胶研发与产业化》 ， 所研发的248nm光刻胶DK系列成为商业化产品 ， 成功进入中芯国际、上海华力微电子和台积电等公司批量使用 ， 产品最小线宽达到0.15um；2020年248nm新产品分辨率可以达到0.11um ， 这可以覆盖所有28nm以上工艺节点的248nm光刻胶的要求 。 在248nm光刻胶之外 ， 他作为研发团队负责人领导开发了0.3um I线光刻胶、厚膜光刻胶及Lift Off用负性光刻胶等产品 ， 这些产品大量应用于国内12/8/6寸及光电子芯片制造中 。 0.11um248nm光刻胶和0.3um i line光刻胶的批量应用 ， 使北京科华成为中国最好的光刻胶公司 ， 也跻身于世界前8行列 。


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