芯片|ASML不是难题？中国巨头绕开荷兰光刻机，新方案有望量产7nm芯片
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众所周知 ， 在2020年月中旬 ， 美国针对华为事件进行了规则的整改 ， 管辖范围更是直接从美国本土扩展到全球芯片供应链 。 根据美国商务部所发布的公告显示 ， 全球芯片制造商 ， 但凡使用了美国技术、设备、零部件、材料的芯片厂商 ， 对华为供货将会受到美国的连带限制 。
考虑到当前华为海思芯片仅完成了芯片架构设计技术 ， 但关键的制造过程还需要依附在台积电之上 ， 所以美国新规的修改 ， 必然也会对华为芯片的供应产生影响 。 所以在华为事件的持续发酵下 ， 也使得国人对芯片制造环节的重视程度不断提高 ， 当然从现阶段的发展情况来看 ， 芯片制造实现独立自主同样也迫在眉睫 。
纵观全球晶圆代工市场 ， 通常情况下都是由台积电为主导 ， 但有碍于台积电当前无法脱离美国技术 ， 在不确定的影响下必然处于被动 ， 因此在关键时刻 ， 作为我国晶圆代工巨头的中芯国际也扛起了大旗 。 目前 ， 中芯国际最领先的工艺制程为14nm ， 与主流7nm和5nm还有着很大的差距 。
一直以来 ， 国人对于中芯国际制程工艺总有一种恨铁不成钢的态度 ， 可对于中芯国际而言 ， 在所谓的抱怨下也存在着众多无奈 。 毕竟在芯片制造的过程中 ， 光刻机这一关键设备就是当前整个芯片产业最大的短板 ， 尤其是在《瓦森纳协定》和美国的干扰下 ， 使得中芯国际根本无法购买到荷兰ASML的高端EUV 。
目前 ， ASML是全球唯一一家能够生产高端EUV的光刻机厂商 ， 在业内处于垄断市场的地位 。 不过 ， 在ASML出货的57台EUV光刻机中 ， 却没有一台出售给中国内陆代芯片代工厂商 。 即便在2018年 ， 中芯国际订购了一台ASML光刻机 ， 后者也欣然接单 ， 可至今都没有音讯 。 因此 ， 在高端EUV的缺乏下 ， 也阻碍了中国芯片制造业的发展 。 好在中国芯片巨头打造了更好的替代方案 ， 绕开ASML的光刻机以实现7nm芯片的量产 。
据悉 ， 目前中芯国际公布了N+1技术 ， 与7nm工艺相差不大 。 根据数据显示 ， 与14nm工艺制程相比 ， 中芯国际N+1工艺使得SOC面积与逻辑面积分别缩小55%和63% ， 同时功耗也缩减57% 。 在性能方面 ， N+1方案相比14nm提升20% ， 所以在数据的对比下 ， 中芯国际也可以在不使用荷兰光刻机的前提下 ， 达到7nm工艺 。
【芯片|ASML不是难题？中国巨头绕开荷兰光刻机，新方案有望量产7nm芯片】不可否认 ， 中芯国际的全新芯片制造方案 ， 能够力助我国芯片产业在不借助EUV光刻机的情况下 ， 打破ASML在光刻机市场上的垄断 ， 让中国芯迎来发展曙光 ， 至于荷兰ASML ， 也不再是困扰中国芯片发展的阻碍 。 对此 ， 大家怎么看？
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