光刻机|如果说光刻机卡住了中国芯的脖子,那EDA则是卡住了头
【光刻机|如果说光刻机卡住了中国芯的脖子,那EDA则是卡住了头】
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众所周知 , 目前中国芯是比较落后的 , 按照2018、2019年的数据 , 自给率不到20% , 意思就是进口芯片比例超过80% , 所以这两年每年进口芯片金额3000多亿美元 。
并不是中国不想自己造芯 , 一是技术相对较差 , 二是造芯的各种设备、软件被卡 , 比如大家经常说光刻机卡住了中国芯的脖子 。
事实上也是如此 , 在芯片制造环节中 , 光刻机是最重要的设备 , 成本占所有芯片制造设备的35%左右 , 而工时占到其中的40%左右 。
偏偏这么重要的设备 , 国内落后国际顶尖水平至少是10年以上 , ASML的光刻机能够生产5nm的芯片 , 而国内量产的芯片只能用于90nm芯片制造 , 目前中芯国际进入了14nm工艺 , 华虹半导体进入了28nm , 都要从ASML采购芯片 , 所以说光刻机卡住的是中国芯的脖子 。
但事实上 , 在光刻机之外 , 卡着中国芯的东西还特别多 , 比如硅晶圆片 , 国内自给比例不超过10% , 还有离子注入设备等等 , 也是卡着的 。
另外在最最上游 , 还有EDA也卡着中国芯 , 甚至如果从上、下游的关系下看 , 如果光刻机认为是卡脖子 , 那么EDA卡的则是头了 。
因为所有的芯片首先要设计出来 , 才能进入到制造环节 , 而EDA是用于芯片设计的 , 是最最上游的芯片软件 。
目前国际三大巨头Synopsys、Cadence和Mentor Graphics占了全球70%的市场 , 而在中国市场则是占了95%的份额 , 国内的芯片大厂们基本都用这三大巨头的产品 , 比如华为 , 紫光展锐、联发科等等 。
在EDA领域 , 国产还差得远 , 不仅流程覆盖远远不如这三大巨头 , 同时在先进工艺上就更加落后得远了 , 国内目前还在支持28nm的芯片 , 三巨头早已支持5nm的芯片设计了 。
更重要的是 , 这三大巨头与台积电、三星等形成联动 , 相互配合 , 形成了统一阵营 , 而国内EDA没有这个影响力 , 所以短时间之内根本无法替代国外产品 。
所以说 , 中国芯要崛起 , 其实需要解决的是上、下游整个产业链的问题 , 绝不是某一项技术突出就能搞定的 , 所以加油吧 , 中国芯 , 道阻且长 。
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