朱邦凌|清华教授打破ASML双工作台技术垄断!“光刻机第一股”登陆科创板

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在芯片和光刻机受到高度关注之际 , 中国光刻机核心零部件顶尖供应商、国产光刻机配套设施供货商华卓精科要冲刺科创板了 , 6月24日 , 上交所正式受理了北京华卓精科科技股份有限公司科创板上市申请 。 公司是国产高端光刻机龙头企业上海微电子的双工件台产品及技术开发的供应商 , 其光刻机双工件台打破了ASML公司在工件台上的技术垄断 , 成为世界上第二家掌握双工件台核心技术的公司 。 
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1、光刻机双工件台打破了ASML公司在工件台上的技术垄断
目前荷兰的ASML是全球最大的光刻机制造商 , 占据了全球光刻机市场(按销售计)的近90%的市场份额 , 尤其是在高端的极紫外光(EUV)领域 , ASML处于完全垄断地位 , 其一台EUV光刻机售价高达1亿欧元 。 而EUV光刻机则是实现5nm甚至是更为先进的制程工艺的关键 。
华卓精科是国内首家可自主研发并实现商业化生产的光刻机双工件台供应商 。 作为上海微电子光刻机双工件台的供应商 , 公司与上海微电子长期保持良好的合作关系 , 为国产光刻机崛起奠定了基础 , 占据了中国商用光刻机双工件台的主要市场份额 。 业内人士表示 , 华卓精科在光刻机双工件台技术上的突破 , 为我国自主研发65nm至28nm双工件干台式及浸没式光刻机提供了技术赋能 , 其对于国产核心装备发展具有远大的战略意义 。
前不久 , 媒体也报道 , 国产光刻机传来好消息 , 上海微电子将会在一年内交付首台“28nm纯国产沉浸式光刻机” , 更重要的是 , 这台光刻机设备可以改用套刻精度更优的华卓精科工作台(1.7nm) , 然后在多重曝光下 , 能够实现7nm制程工艺的芯片生产 。
半月前 , 上海半导体装备材料基金宣布已成功入股华卓精科 。 万业企业董秘在回答投资者提问时表示 , 公司于2018年1月19日与上海半导体装备材料产业投资基金合伙企业正式签署协议参投该基金成为重要参投人 , 目前该基金已参投华卓精科、上海御渡、飞凯材料、精测电子及长川科技 , 并购了紫光控股等集成电路装备材料核心项目 。 
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2、光刻机工件台是光刻机的核心子系统之一
光刻机主要由工件台、投影物镜和光源三大核心子系统件组成 。 光刻机工件台是光刻机的核心子系统之一 , 其主要功能是承载晶圆按照指定的运动轨迹做高速超精密运动并完成一系列曝光所需动作 , 包括上下片、对准、晶圆面型测量和曝光等 。
据官网介绍 , 北京华卓精科科技股份有限公司主营业务为光刻机双工件台、超精密测控装备整机以及关键部件等衍生产品的研发、生产以及销售和技术服务 。 公司长期专注于纳米级超精密测控技术 , 是国内领先的集成电路制造装备及其核心部件、精密/超精密运动系统及相关技术供应商 , 致力于在实现超精密机械与测控技术成果产业化的基础上成为中国乃至全球卓越的精密科技公司 。 公司以光刻机双工件台为核心 , 并以该产品的超精密测控技术为基础 , 开发了晶圆级键合设备、激光退火设备等整机产品 , 以及精密运动系统、隔振器和静电卡盘等部件衍生产品 。
公司主要从事光刻机双工件台、超精密测控装备整机以及关键部件等衍生产品的研发、生产及销售和技术服务 , 通过向下游集成电路制造、超精密制造、光学、医疗、3C制造等行业内公司销售包括光刻机双工件台在内的超精密测控装备整机及部件 , 并根据客户在精密度等方面的具体需求提供相应的技术开发服务 。
2017年度至2019年度 , 华卓精科营业收入金额分别为5,410.22万元、8,570.92万元、12,096.58万元 , 复合增长率为49.53% , 净利润分别为1,253.21万元、1512.36万元、2,087.24万元 , 复合增长率为29.05% 。
华卓精科作为技术驱动型企业 , 持续加大在研发上的投入 。 报告期内 , 公司研发投入分别为1,663.65万元、8,256.56万元和14,181.84万元 , 占各年度营业收入的比例分别为30.75%、96.33%和117.24% , 呈上升趋势 。 
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3、清华大学朱煜教授带领的团队攻克光刻机工件台科技难题
这家公司成立的背景是:2016年4月28日 , 由清华大学机械工程系朱煜教授担任负责人的研发团队历经5年时间研发的光刻机双工件台系统样机成功通过了国家科技重大专项“极大规模集成电路制造装备及成套工艺”实施管理办公室的项目验收 。
国外业界曾认为 , 中国人现在不能、未来也不可能造出如此高精密超复杂的光刻机设备 。 日本尼康株式会社的社长来中国访问时曾说过这么一句话:“光刻机光学系统虽然很难 , 我相信你们能够研制出来 , 但工件台恐怕就拿不下来了 , 因为这个系统太复杂了 。 ”
然而 , 就是这么一个被公认为“太复杂”而不可能被中国解决的科技难题 , 却被清华大学朱煜教授带领的团队攻克了 。 在国家“十二五”科技创新成就展上 , 他们展出了自主研制的光刻机双工件台的核心模块 , 即运动定位模块POMO , 装备这种模块的双工件台系统可实现与掩模台优于2nm的同步运动精度 。
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