蚀刻机和光刻机区别 _蚀刻机

蚀刻机和光刻机区别
蚀刻相对于光刻来说要容易一些。光刻机把图案印上去，然后蚀刻机根据印上去的图案蚀刻掉有图案（或者没有图案）的部分，留下剩余的部分。
光刻是指在涂满光刻胶的晶圆（或者叫硅片）上盖上事先做好的光刻板，然后用紫外线隔着光刻板对晶圆进行一定时间的照射。原理就是利用紫外线使部分光刻胶变质，易于腐蚀。
蚀刻是光刻后，用腐蚀液将变质的那部分光刻胶腐蚀掉（正胶），晶圆表面就显出半导体器件及其连接的图形。然后用另一种腐蚀液对晶圆腐蚀，形成半导体器件及其电路。蚀刻分为两种，一种是干刻，一种是湿刻（目前主流），顾名思义，湿刻就是过程中有水加入，将上面经过光刻的晶圆与特定的化学溶液反应，去掉不需要的部分，剩下的便是电路结构了，干刻目前还没有实现商业量产，其原理是通过等离子体代替化学溶液，去除不需要的硅圆部分。
荷兰解除禁令,向中国出口光刻机,他们是怎么想的呢?荷兰最终解禁，卖给中国的光刻机，但这个荷兰先进的光刻机并不代表中国芯片行业的腾飞。中国芯片行业真正的救星，一定是中国自己。特朗普离开白宫后，外国强加给中国的所有技术限制似乎都失败了。就在上周，好消息来了，一直处于反对向中国出售光刻机保护主义状态的荷兰，同意以12亿美元的价格从全球光刻机巨头ASML (Asme)购买14nm光刻机。

文章插图
很多人认为这次收购会拯救中国的芯片行业。但是真的是这样吗？
长期以来，由于光刻机的特殊性，中国网民甚至将其视为半导体行业的生命线。但其实光刻机只是芯片生产线的一部分。还是一个制作环节。芯片的生产至少需要七个主要过程，即扩散、光刻、蚀刻、离子注入、薄膜生长、抛光和金属化。那么每个流程需要多少设备呢？
以SMIC 12英寸集成电路为例，我们需要22种扩散设备、8种光刻机、25种刻蚀设备、13种离子注入设备、12种研磨抛光设备和17种清洗设备。此外，还有涂胶设备、PVD设备、检测设备、检测设备等。生产环节也就几百个。一台光刻机不是万能的，它可以解决上百个生产环节的问题。所以单用光刻机是绝对不可能实现中国芯片的全面飞跃的。然而，这并不意味着我是悲观主义者。外国人把光刻机卖给中国，确实可以算是中国芯片行业的一个重大转折点，但最重要的一点不在光刻机，而在卖光刻机。
事实上，中国现在可以制造激光雕刻机，主要制造商是上海微电子。这家公司曾经去过央视的节目，是做光刻机的。虽然它的技术在中国是顶尖的，但在世界上是落后的，落后于荷兰的两代ASML 。不过根据中国人的实力，不用担心他们有多落后。如果他们有，他们很快就会赶上国际主流标准。
【蚀刻机和光刻机区别】欧美国家这次愿意把自己的光刻机卖给中国馆的主要原因是老套的原因，就是因为中国有。当中国没有某项技术的时候，欧美国家肯定会想尽办法阻止中国购买或者研发。

文章插图
但是当我们有了这项技术，对方就会解除对我国的一切限制。在同一个芯片行业，第一个拿到欧美提货单的其实不是光刻机，而是蚀刻机。这项技术禁令的接触时间是2015年。当时美国商务部下属的工业安全局这样说：中国实际上已经从中国企业获得了与美国产品数量和质量相当的蚀刻设备，继续实施国家安全出口管制措施毫无意义。现在的中国完全可以自己生产芯片制造所需的所有仪器，不会太落后于国际领先水平，顶多落后国际主流水平一到两代。还有一些产品，比如Microsemiconductor的蚀刻机，已经达到国际先进水平，有一小部分水平停留在三代之前。
其实这种发展状态可以说是相当不错了。毕竟大家都听过木桶理论，决定木桶能装多少水的永远是最短的短板。目前中国芯片行业的诚信度很高，不亚于美国日本这种老牌半导体大国。这意味着我们没有很多特别短的短板，只要努力就能赶上。另外，今天的芯片制造技术越来越接近物理极限。就像当年大规模集成电路取代晶体管一样，集成电路很难继续取得突破。如果没有新技术的出现，7nm芯片很可能是人类已经可以实现的最高工业成就。这给我们的半导体行业带来了一个非常宝贵的窗口期。