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力鼎华为，以“造原子弹”的体制优势，造“高端光端机”的艰难

大道无常 。 对于华为下半年将要发布的旗舰手机Mate 40 。 据台湾媒体报道 ， 台积电已经积极协调高通、联发科、AMD、英伟达等厂商的订单 ， 优先挪部分给华为 ， 争取在120天缓冲器内先帮华为生产足够的芯片 。 在上半年 ， 华为已经把原来给台积电的订单部门转移到中芯国际 。 中芯国际当前已经具备不依赖ASML的光端机生产7nm工艺 ， 再加上海微电子同步加速高端光端机的研制 。
力鼎华为，以“造原子弹”的体制优势，造“高端光端机”的艰难文章插图
中芯国际 ， N+1工艺和台积电第一代7nm工艺相近 ， N+2代工艺与台积电的7nm+相近 。 N+1工艺有望在2020年第4季度正式开始量产 。 至于光刻机 ， 中芯国际CEO梁孟松,表示在当前的环境下 ， N+1、N+2代工艺都不会使用EUV工艺 ， 等到设备就绪之后 ， N+2之后的工艺才会转向EUV光刻工艺 。
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那么什么是光刻机？又为何如此重要？接下来 ， 道哥 ， 给您一一娓娓道来 。 光刻机 ， 其英文名为Mask Aligner ， 又名曝光系统 ， 光刻系统 。 现在 ， 常用的光刻机 ， 严格而言 ， 是“掩模对准曝光机” ， 英文为Alignment System 。
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光刻机的工作原理机制 ， 在芯片的硅片表面上 ， 覆盖一层具有高度的立体光敏感性光刻胶 ， 再用光线（一般是紫外光、深紫外光、极紫外光）透过掩模照射在硅片表面 ， 被光线照射到的光刻胶会发生反应 。 光刻完成后对没有光刻胶保护的硅片部分进行刻蚀 ， 最后洗去剩余光刻胶 ，就实现了半导体器件在硅片表面的构建过程 。
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在平时生活中 ， 特别是科技产品 ， 无论是手机、PC、空调、汽车等 ， 还是大飞机、火箭等 ， 其核心部件 ， 例如CPU、GPU、内存、主控板、信令板、媒体板、电路板等 ， 都缺不了芯片的支持 ， 也就是说 ， 现代社会维持正常的运转 ， 已经离开不了芯片 ， 可见能否制造芯片 ， 已经是至关重要 。
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而光刻机是就是制造芯片过程中的一个重要工具 ， 缺一不可 。 当前 ， 中国每年进口芯片的金额量 ， 早已超两桶油的进口量的金额 ， 可见 ， 可见 ， 光刻机的重要性不言而喻 。
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有人会说 ， 从原理看来不难呀 。 如果造一个几米的芯片难度不大 ， 但是需要在只有几毫米芯片硅片表面上 ， 进行精刻成多层多纳米级的多维点面的类似几十层的多维大楼 ， 且能保证所建的整座大楼能散热、通风、通电、通水、通行等 ， 其实际难度可不是一般的大 。 如果难度不大 ， 我们国家早就大量进口了 ， 每年进口的金额堪比两桶油的进口量的金额 。
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中芯国际 ， 从荷兰ASML公司进口的光刻机 ， 单台就上亿元 ， 还是提前交定金才能买得到 。 荷兰ASML公司的光刻机 。 不是有钱 ， 你想买就能买 。 1996年的《瓦森纳协定》有严格的审核要求 。 他们有严格的资质审核要求 ， 达到了资质才能买到 。 这次中芯国际 ， 能拿到荷兰ASML公司的光刻机 ， 如果不是荷兰国内疫情有压力 ， 可能他们不卖给我国 。
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