光刻胶|ASML光刻机！国产光刻胶龙头正式宣布，向日本卡脖子技术发起冲击
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由于设计难度大、制造工艺复杂 ， 芯片被称为人类工业文明皇冠上的明珠 。 以目前全球最领先的5纳米制程芯片为例 ， 一颗华为麒麟9000芯片里包含超过100亿个晶体管 ， 每个晶体管尺寸只有头发丝的1/5000分之一大小 ， 肉眼几乎不可见 ， 大家可以脑补一下5纳米芯片的制造工艺得多复杂！
也正是因为制造工艺越来越复杂 ， 自从芯片进入10纳米制程以下之后 ， 越来越多的芯片巨头宣布放弃自己制造 ， 而是交给专业的芯片代工企业帮忙生产 ， 比如中国台湾的台积电、韩国的三星电子、美国的格罗方德、中国大陆的中芯国际等等
目前全球能量产5纳米芯片的只有台积电一家 ， 三星电子初步掌握了5纳米芯片的技术但是达不到量产的水平 ， 美国这边芯片制造技术最强的是英特尔 ， 不过英特尔现在连7纳米芯片的量产问题都没解决 ， 总之一句话 ， 越是芯片制程越小 ， 越难制造 ， 即便是美国企业 ， 也是一样没辙！
【光刻胶|ASML光刻机！国产光刻胶龙头正式宣布，向日本卡脖子技术发起冲击】虽然美国的芯片制造技术全面落后台积电和三星电子 ， 但是美国在光刻机的光源、芯片半导体材料、芯片IP架构、芯片设计用的EDA软件这四个方面仍然具有全球性的垄断性地位 ， 这也是美国可以“挟天子以令诸侯”地封禁华为芯片的根本原因
芯片制造过程中有三个最重要的核心设备：光刻机、蚀刻机、薄膜沉积设备 ， 其中我国的中微半导体早在2018年就研发成功了世界首台5纳米等离子蚀刻机 ， 目前已经应用于台积电的5纳米芯片生产线；中微半导体在薄膜沉积设备也有很强的技术积累 ， 基本可以避免被卡脖子
所以 ， 目前中国半导体产业最急需突破的就是光刻机 ， 不过光刻机其实不是一个单独的设备 ， 而是要跟一些高端化学材料配合才能完成光刻过程 ， 其中最重要的一种材料叫光刻胶 ， 如果没有高端光刻胶 ， 即使把荷兰ASML最高端的EUV光刻机给我们 ， 我们也生产不出来5纳米芯片
大家平常没有听说过被光刻胶卡脖子 ， 是因为日本是光刻胶领域的绝对老大 ， 全球前5的光刻胶公司有四家都是日本公司 ， 但是如果我国想完全实现芯片的100%国产化 ， 光刻胶是不得不迈过去的火焰山
除了光刻胶以外 ， 芯片制造所需的19种必备材料中 ， 日本在其中的14种材料领域占据超过50%的市场份额 ， 是绝对的芯片制造材料一哥 ， 去年日韩矛盾期间 ， 日本就对韩国实施了三款半导体材料的出口限制 ， 这三款材料日本霸占着全球70%~90%的市场 ， 具有绝对的话语权 ， 最终打的韩国秒举白旗！
我国其实也有生产光刻胶的企业 ， 其中江苏的晶瑞股份是代表性的龙头企业 ， 只不过由于起步较晚 ， 目前只能生产较为低端的光刻胶 ， 无法满足14纳米以下芯片的制造
为了避免以后出现被日本光刻胶“卡脖子”的情况 ， 近日晶瑞股份正式宣布了大动作：将以1102.5万美元的价格购买一台ASML光刻机 ， 向高端光刻胶技术正式发起冲击！
这次购买的荷兰的ASML光刻机虽然不是最高端的极紫外光刻机EUV ， 但是也属于高端光刻机系列 ， 主要用作晶瑞股份研究高端光刻胶的实验仪器 ， 只有经过ASML的高端光刻机试验过 ， 才能正在掌握高端光刻胶的制造技术
“终于懂得提前布局了！”有业内人士评论 ， 看来被光刻机卡脖子的痛彻底让中国芯片产业觉醒了 ， 一定要提前布局 ， 虽然现在日本的半导体企业对中国公司比较友好 ， 但不代表永远会这样 ， 毕竟这个世界上没有永远的朋友 ， 只有永远的利益！
加油吧 ， 晶瑞股份 ， 加油吧 ， 中国半导体！
大家觉得日本以后可能会用光刻胶卡我们脖子吗？
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