芯片|经过八年的研制光刻技术,没想到中科院早已启动光刻技术研究计划

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在华为芯片被断供以后 , 在手机业务上遭受了非常大的影响 , 凭借存货的芯片 , 也只可以满足将来半年手机的销售量 , 如果没有方法立即应对芯片供应的难题 , 华为明年的手机出货量可能很大程度减少 , 有可能会减少到五千万台左右 , 在二零一九年的时候 , 华为的总销售量达到了2.4亿台 , 对于这样的落差不仅仅华为无法接受 , 就连国人也表示痛惜 。
现阶段中国在整个芯片领域的技术水平 , 跟欧美国家還是有非常大悬殊的 , 尽管华为具有了极其先进的设计加工工艺 , 但却沒有了相对应的生产制造加工工艺 , 仅有依赖tsmc进行芯片的代加工 , 这样“明显偏科”的严重后果也慢慢呈现了出来 , 华为的处境也是现阶段整个中国集成电路领域的真实写照 。
事实上现阶段中国在整个半导体领域的相应技术 , 也并沒有都很差 , 主要是卡在了制造加工工艺上 , 在芯片设计及其最后的封装测试上 , 都是有相对应的企业可以完成顶级的技术水平 , 而现阶段我们要点卡在了光刻技术上 。
光刻技术作为人类发展史上最为高精密的工业设备 , 当中要使用的零件超出了十万个 , 总体的净重更加是完成了一百八十吨 , 正因为这样1台的销售价就达到了数十亿 。 现阶段可以具有光刻技术生产制造加工工艺的也仅有上海微电子 , 早在07年的时候这些人就完成了90纳米光刻技术的生产制造 , 之后因为各种原因就搁浅了这一个项目 , 那时候的绝大多数零件全部都是依赖进口的 , 上海微电子也只不过完成了组装部分 。
目前可以生产制造顶级的EUV光刻机的也只有荷兰的ASML , 极其先进的光刻技术可以完成5nm的生产制造加工工艺 , 现阶段tsmc及其sung都已经在使用了 , 而在我国不可以在制程加工工艺上更进一步提升 , 便是因为没法获得到ASML公司最新的光刻技术 。
而近日中科院院士白春礼也把光刻机的研发 , 列入了今后的要点研制开发任务里 。 只不过这当中也出现着许多的质疑 , 尖端的光刻技术我们真的可以研制开发出来吗?荷兰的ASML可以做到垄断全球市场 , 那只不过击败了许多强悍的对手 , 日本的cannon及其nikon便是1个事例 , 这些人是较早进行光刻技术研制开发的企业 , 而现如今这些人都早已放弃了 , 我们是不是也有希望呢?
事实上日本这两家公司并沒有选择放弃生产制造光刻技术 , 只不过这些人现阶段早已转为了屏幕生产制造领域 , 所生产制造出来的光刻技术也主要用在该领域 , 而上海微电子先前生产制造出来的光刻技术 , 和这些人具有如出一辙之妙 , 尽管可以生产制造只不过加工工艺要求较低 , 在性能指标上也具有非常大的区别 。
中国科学院早已早已介入光刻技术的研制开发
早在上个世纪90年代的时候 , 长春光机所就早已开始对极紫外光源展开了研究 , 它是光刻技术较难的一部分 , 只不过就早已开始了EUV/X射线的成像研究 , 尽管并沒有取得非常大的成就 , 但是也确立了一定的理论基础 。
历经很多年的研制开发 , 总算在二零一七年的时候 , 长春光机所极紫外光(EUV)光刻核心技术研究项目通过了最后的验收 , 该项目联合了好几家研究机构及其各大高校 , 也代表着中国科学院最高的研究成果 。
【芯片|经过八年的研制光刻技术,没想到中科院早已启动光刻技术研究计划】历经了八年時间的刻苦研制开发 , 攻破了极高精度极紫外多层膜、非球面加工与检测等等要点单元技术 , 这些技术全部都是采用13.5nm的极紫外光完成的 , 一同搭建了EUV光刻曝光装置 , 最后实现了32纳米的光刻胶线宽图形 , 这也是在我国初次完成这样的精度 。
尽管现阶段在极紫外光技术上还不稳定 , 但对我们而言早已是非常大的提升了 , 最高研制开发极紫外光技术的是英特尔公司 , 从1997年开始研究 , 直至2016年才完成了最后商用量产的EUV光刻技术 , 这些人也整整花了9年的時间 , 因此我们在没什么基础的情况下可以这么快完成突破 , 早已十分的不易了 。
在二零一九年光刻技术又迎来好消 , 清华大学朱煜教授团队研制成功了 , 光刻技术又一个要点设备“双工件台” , 先前仅有荷兰的ASML公司可以掌握 , 这也一下子打破了这些人的很多年技术封禁 。
尽管光刻技术生产制造过程非常的复杂 , 只不过被人卡脖子的滋味并不舒服 , 现阶段我们早已具备了生产制造光刻技术的一切条件 , 即便 不能完成同样的加工工艺 , 但是对光刻技术的生产制造能力 , 我们也一定要有 , 对于此事你们有哪些看法呢?
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