中芯国际8nm芯片突破！不需要EUV光刻机，绕过垄断工艺破新高
在国内芯片铸造企业之中 ， 中芯国际备受关注 。 从资料之中可以看出 ， 中芯国际是中国大陆技术最先进、规模最大、跨国经营的专业晶圆铸造企业 。 
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随着压制的加剧 ， 我们已经意识到核心技术自主性在中国的重要性 。 特别是在半导体芯片领域 ， 中国必须摆脱对国外相关技术的依赖 ， 因为华为的例子告诉所有国内科技企业 ， 只有掌握了自己手中的技术 ， 才能避免被别人控制！
最近国内的筹码有很强的爆发趋势 。 特别是中芯国际以国产芯片为代表的业绩迎来新一轮增长 。
从营收来看 ， 由于国产14nm工艺量产 ， 并贡献了1%的营收 ， 预计今年会继续增长 。 此外 ， 中芯国际14nm工艺的成熟和12NM工艺能力的提高 ， 无疑将刺激性能的增长 。 例如 ， 目前的产能已从每月1000片增加到3月份的4K ， 预计到12月中旬将达到每月1.5万片 。 
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中芯国际官方公告！8nm芯片将于今年年底投入试生产 ， 不需要EUV光刻机 。 这意味着之中芯国际在芯片生产之上取得了巨大突破 ， 一直饱受国内问题困扰 ， 终于看到了解决问题的希望！
中芯国际CEO透露 ， N+1工艺比14nm工艺性能提高20% ， 功耗降低7% ， 面积减少63% 。 这种工艺相当于8nm技术 。 换言之 ， 中芯国际预计将在今年年底进入8nm的小批量生产 。
第二代FinFET技术平台已进入客户引进阶段 ， 优势在于芯片成本较低 。 中芯国际在8nm工艺之上取得了更大突破 。 根据中芯国际的N+1工艺 ， 不需要光刻就可以生产出8nm 。 
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8nm芯片可能是很多人第一次听说 ， 但它与7Nm芯片的工艺几乎相同 ， 而且在各个方面都表现良好 。 中芯国际披露的数据显示 ， 与台积电14nm芯片相比 ， N+1工艺生产的8nm芯片性能提高20% ， 功耗降低7% ， 面积减少63%！
【中芯国际8nm芯片突破！不需要EUV光刻机，绕过垄断工艺破新高】总的来说 ， 中芯国际试产8nm芯片对我国来说是一个难得的好消息 ， 可能会促进国产芯片的进一步发展 ， 帮助华为走出困境 。 但我们不能盲目乐观 。 我们应该知道 ， 台积电和三星都已经达到了5nm的水平 。 中芯国际任重道远！
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