美国|凭借一国之力能搞出光刻机吗?( 二 )


美国|凭借一国之力能搞出光刻机吗?
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资金和人才到位后 , 主角却上不了台面 , 美国之前的光刻机企业被日本公司打的七零八落 , 没有一个能担当重任 。 英特尔想拉尼康和ASML一起入伙 , 但问题是 , 这两家公司都是外国的 。 美国政府出面干预 , 选择荷兰企业 , 拒绝日本公司 。 尼康是敌人 , 80年代把美国半导体产业打压的太惨 。 不过 , ASML加入是有条件的 , 必须在美国建立工厂和研发中心 , 满足美国本土需求 , 55%的零部件要从美国厂商采购 , 并接受定期审查 。 美国为什么能让荷兰对华禁售EUV光刻机 , 原因就在这 。
90年代 , 尼康、佳能的光刻技术全球领先 , 美国成立的极紫外联盟 , 相当于纠集了一群二流企业 , 抢夺老大的位置 。 当初 , ASML公司只是一个不知名企业 , 光刻机的市场份额很小 , 因缘巧合傍上美国大腿 , 之后 , 好运接连不断 。
90年代末 , 光刻机的光源卡在了193nm , 成为难以突破的门槛 。 这里的193nm , 说的是光的波长 , 它和芯片制程的概念不一样 。 光的波长相当于刻刀的宽度 , 芯片的制程指的是 , 刻刀在硅片上刻出沟槽的最小宽度 。 从60年代开始 , 这把刻刀 , 从436nm、365nm、248nm , 到如今的193nm 。 再往下 , 刻刀就要磨得更锋利 , 但技术出现分水岭 。 尼康希望稳步前进 , 选择157nm的激光 , 作为下一代刻刀 。 新成立的极紫外联盟押注更加激进的方案 , 选择几十纳米的极紫外光 。 不过 , 当时这些尝试都失败了 。
2002年 , 台积电一个叫林本坚的工程师提出 , 浸润式光刻工艺 。 利用了一个很简单的原理 , 光在水中会产生折射 。 在光刻机的透镜和硅片之间加一层水 , 原来的193nm激光 , 经过液体发射折射 , 波长直接降到132nm , 刻刀突破之前的瓶颈 , 变得更锋利 。 林本坚拿着方案去找日本公司 , 希望它们采纳 , 结果吃了闭门羹 。 ASML决定赌一把 , 采用林本坚的方案 , 以小博大 , 仅用一年时间 , 就赶制出样机 。 新型光刻机经过测试 , 性能优异 , 获得IBM、台积电的大量订单 。 光刻机不是快消品 , 企业花钱肯定是买最好的产品 , 日本企业没有拿出最好的产品 , 只能停留在中低端 , 逐渐落后 。
美国|凭借一国之力能搞出光刻机吗?
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日本半导体公司有两个特点 , 一是 , 崇尚匠人精神 , 非常固执的认为自己的技术最好 , 宅在实验室里研究技术 , 缺乏全球视野 。 二是 , 售后服务差 , 对客户提出的设备问题 , 不能及时解决 , 因为他们对自己的产品非常有信心 。 在市场上 , ASML生产的设备更受欢迎 , 他们的做法与日本公司相反 , 采纳客户意见 , 提供周到售后服务 。 日本半导体企业衰落还有一个重要原因 , 他们一直遵循IDM模式 , 芯片的设计、制造、封装、测试 , 都尽量自己做 , 不与他人分享利益 。 芯片越做越精密 , 制造成本越来越高 , 所有的活都自己干 , 企业负担加重 。 90年代后 , 分工合作的模式成为主流 , 设计公司只管设计 , 代工企业专注于代工 , 成本分摊 , 压力减小 , 还能满足客户多样化需求 。
ASML的新型光刻机 , 对尼康 , 佳能造成致命打击后 , 世界各大半导体厂商的订单纷涌而至 。 此后 , 随着光刻技术的不断改进 , 浸入式光刻机一直做到现在的7nm 。 看着ASML日益壮大 , 美国华尔街资本闻风而动 , 大量购买这家公司股份 , 实现控股 。 现在ASML的三大股东:资本国际集团、贝莱德、英特尔 , 都来自美国 。 经过这些操作 , ASML“顺理成章”地成为了半个美国公司 。
“美国光环”也给ASML带来好处 , 2009年 , 美国的Cymer公司研发出EUV光刻机所需的大功率光源 , 成为ASML的供应商 , 这种光源是光刻机的核心零件 , 全球有这样技术的公司不超过三家 。 2013年 , ASML决定收购Cymer公司 , 美国政府同意了 。
在《瓦森纳协议》框架下 , 欧美国家最先进的光刻机一直对华禁售 。 可以出售的那些也都附带由保留条款 , 禁止给中国国内自主CPU 做代工 。 中国芯片起不来 , 有一部分原因是买不到先进设备 。
国产光刻机起步并不晚 , 从上世纪70年代算起 , 清华大学精密仪器系、中科学院光电技术研究所、中国电科45所 , 都投入力量研发 , 但与欧美最先进的设备相比 , 差距较大 。 在光刻技术上 , 中国积累不足 。 全球光刻机专利数量排名前十的公司 , 除了台积电 , 都是外国公司 。
目前 , 芯片制程正在向5nm以下演进 , 只有英特尔、台积电、三星等少数企业 , 掌握最先进的芯片生产线 , 他们与原材料生产商、半导体设备商 , 相互持股 , 构成“你中有我 , 我中有你”的垄断格局 。
光刻机作为最重要芯片制造设备 , 已经不是一个国家或几个企业能完成的工程 , 必须与全球顶级的光源、光学、材料、关键零部件厂商进行合作 。 美国试图遏制中国半导体产业发展 , 但我们不能因此放弃与国外的技术交流 。 中国企业要在一些关键领域实现突破 , 掌握别人没有的技术 , 高端光刻机制造才有我们的话语权 。


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