真空|真空蒸镀的设计要求是什么
真空蒸发镀膜简称“真空蒸镀” ， 是指一种在真空室中放置膜材 ， 通过加热蒸发源蒸发膜材 ， 使蒸气分子或原子逸出蒸发源表面 ， 而真空室的线性尺寸小于空间气体分子的平均自由程 ， 所以它与其他原子或分子的碰撞会很少 ， 可以直接到所镀的基材表面凝结 ， 最终完成真空中的薄膜蒸镀 。真空连续式的蒸发镀膜设备的应具备足够长的使用寿命、足够高的蒸发效率、且蒸发坩埚不会和蒸发材料发生反应、可以是持续稳定运行、可以自动补充蒸发的物料 。
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【真空|真空蒸镀的设计要求是什么】蒸镀过程的真空环境要求真空室中膜材蒸发出的分子或者原子的平均自由程要大于所镀基材和蒸发源间的距离 。
因此 ， 在设计蒸发源时 ， 除要求能蒸镀常见的材料外 ， （如Fe、Al、Cr、Ti、Co及其合金 ， 还有ZnS、SiOi、SiO、MgF等）还要求具备以下特点：
1、蒸发热源运行成本低、维护方便；
2、蒸发源的具备足够的耐用性与可靠性；
3、长时间进行持续工作依然有很好的稳定性；
4、蒸发源膜材蒸发率易于控制；
5、膜材蒸发率较高 ， 同时膜材量可以储存足量 。
常用真空蒸镀的蒸发源类型有三种 ， 分别是电子束加热蒸发源、电阻加热蒸发源以及感应加热蒸发源 。其中 ， 感应加热蒸发源的蒸发速率较大 ， 约为10倍的电阻式蒸发源的蒸发速率 。此外 ， 还具备温度容易控制、操作简单、膜材纯度要求低等特点 ， 因而降低生产成本 ， 其温度均匀且稳定 ， 可以避免很多膜层的针孔现象 ， 因此 ， 此类蒸发源在金银丝成品生产中非常适用 。
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