华为|中科院5纳米光刻取得突破，华为迎来转机？事情远没有那样乐观
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今年由于美国对华为采取严厉的制裁 ， 尤其是不允许采用美国技术的芯片制造商给华为代工手机芯片生产 。 一下子让华为的麒麟手机芯片陷入了很大的困境 ， 华为的手机产业受到了严重的影响 ， 前景相当的不妙 。 华为的麒麟芯片是华为海思经过多年发展起来的 ， 投入了大量的人力物力 ， 目前可谓是世界最先进的水平 ， 站在世界之巅间上 ， 就连美国的高通性能也比麒麟差不少 。
美国人一看从正面上无法竞争过中国的公司 ， 就采取歪门邪道的手法 ， 他们也不再提什么自由竞争的鬼话 ， 干脆直接动手 ， 开始对华为进行全方位的围追堵截 。 而由于国内的芯片制造产业一直落后于国际先进水平 ， 无法给华为代工最新设计的麒麟手机芯片 ， 所以华为的麒麟手机芯片和手机产业一下子就陷入了迷茫之中 。 因为最新设计出来的手机芯片需要台积电5纳米的制造工艺 ， 而国内的中芯国际最先进的也只有14纳米的工艺 ， 根本无法生产 ， 而且中芯国际本身也采用了美国的技术 ， 在美国的制裁之下 ， 也不敢轻易突破禁令给华为代工 ， 否则的话有可能受到美国的制裁 。
事实上在芯片制造环节最关键的是光刻机 ， 而中国目前的光刻机与荷兰的ASML公司的光刻机相比还有相当大的差距 ， 荷兰ASML公司的光刻机能够制造5纳米的工艺 ， 而中国最先进的上海微电子能够生产的出来的光刻机最先进的也只能够制造28纳米的工具 ， 在今年年底将批量生成 。 虽然说在一两年之内 ， 上海微电子能够制造出12纳米工艺的光刻机 ， 但是再往上就相当艰难了 。
光刻机这个芯片制造中最核心的机器确实阻碍了中国半导体芯片的发展 ， 因为28纳米就是中国能够弄出来的极限了 。 美国正式瞧准了中国的这一软肋 ， 加大了制裁 ， 让华为目前已经取得优势的产业 ， 只能够被美国掐灭 。 无数国人为之扼腕 ， 不过现在有新闻报道 ， 说中科院说制造出来了5纳米的光刻机 ， 这实在是一个令人值得振奋的消息 ， 因为有了这种光刻机 ， 华为的困难不就迎刃而解了吗 。
中科院官网上刊登了一个报道 ， 就是苏州纳米所在超高精度激光光刻技术研究中获得了巨大的进展 ， 实现了5纳米的特征线宽 。 但事实上中科院的这个技术 ， 只是为了实现纳米狭缝电极阵列结构的规模生产 ， 和集成电路并没有什么关系 ， 它开发了一种新型的三层堆叠薄膜结构 ， 实现了双激光束交叠 ， 对能量密度及其波长进行精确的控制 ， 最终的实验结果表明 ， 能够在线宽上面将精度精确到5纳米 ， 而ASML公司的光刻机采用的是EUV极紫外光刻 ， 而此次中科院所采用的是完全和他们不一样的技术 。
但这一次攻克的只是光刻机其中的一项关键技术 ， 在实现5纳米光刻机国产化的道路上 ， 我们还有很长的一段路需要走 ， 并没有取得觉得性的突破 。 目前世界上的光刻机还是荷兰ASML公司最强 ， 其他公司几乎没有可以与他相提并论的 ， 甚至连能够和他相抗衡的公司都没有 ， 他在这一行业完全实现了超级垄断 ， 就如同当年日本公司在数码相机上的优势一样 。
所以说中科院所推出的这个技术 ， 对华为目前的困境没有太大的帮助的 ， 否则的话就不只是一个简简单单的新闻报道了 ， 说不定整个国家都会为之欣喜若狂 ， 因为这简直就是战略性的突破 ， 而西方国家估计都会为之大惊失色 ， 而ASML公司恐怕就会马上陷入困境 。 不过情况显然没有那么乐观 ， 否则的话 ， 美国大力采取的制裁早就化为乌有了 。
【华为|中科院5纳米光刻取得突破，华为迎来转机？事情远没有那样乐观】但是也用不着气馁 ， 目前国家已经加大对于半导体领域研发的扶持力度 ， 现在中国很多企业也明白了自主创新的重要性 ， 纷纷加入到这一场科技的斗争中去 ， 目前不仅是中科院 ， 就连很多的民营企业也实现了技术突破 ， 大家只要有了这样的决心 ， 实现高端光刻机国产化 ， 这一天估计很快就会到来的 。
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