asml|泼冷水！中科院光刻技术和ASML有什么区别
最近小编看到一串的新闻都在说 ， 中科院激光光刻技术克服了5纳米技术的难关 ， 不需要再受制于荷兰公司ASML了 。
所以一时之间情绪高涨 ， 觉得中国的光科技技术已经走在了世界的前列 ， 不需要再受制于荷兰的技术 ， 可以自己自产自发自主自销 。
那么小编今天就来泼一盆冷水 ， 告诉大家中科院的光刻技术和asml的EUV技术有什么区别 。
中科院的5nm是激光直写技术 ， 是做纳米狭缝 ， 暂时不可以刻画任意图形 ， 不可直接用于集成电路和芯片制造 。
换言之 ， 就目前的技术而言 ， 我们还没有办法摆脱asml ， .现在中国科技的发展是一代又一代的科技人一点一滴的突破的小编相信我们的这些短板 ， 总会有一天能够不吃 ， 我们可以真正的超越别人 ， 但是我们应该要时刻保持清醒的头脑 ， 有进步当然需要表扬 ， 但是不能够因为有一点进步 ， 而过分的吹嘘 。
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