光刻机|中科院删掉5nm新闻，落后的国产光刻机，何时能追上国际？
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华为受美国制裁 ， 将面临芯片断供一事 ， 暴露了我国芯片制造行业的落后 ， 各界对于国产芯片的关注度也骤然提升 。 前段时间 ， 中科院一篇研究员研发出新型5nm超高精度激光光刻加工方法的新闻更是引发了热议 ， 一时之间 ， 国产芯片有望超车、替代光刻机的夸大言论四起 。
不久后 ， 中科院便将5nm新闻删除 ， 原因不详 。 上述技术虽然令人瞩目 ， 但还停留在实验室阶段 ， 想要替代光刻机还有很长的路要走 。 这不禁让人发问 ， 落后的国产光刻机 ， 何时能追上国际？其实 ， 早在20世纪70年代时 ， 我国便开始光刻机的研制 ， 并确定了光刻机设备与工艺的重要性 。
不过我国基础产业十分薄弱 ， 在1977年 ， 首台GK-3型接触式光刻机才问世 ， 与彼时领先的1:1投影光刻机与分步投影光刻机有着不小的差距 。 1985年 ， 中国首台分步投影式光刻机问世 ， 缩小了与美国之前的差距 。 但ASML的迅速崛起却又骤然拉大了国产光刻机与国际之前的差距 。
ASML更是实现了对尼康、佳能这两大光刻机巨头的赶超 。 面对如此大的距离、强大的技术壁垒 ， 我国光刻机想要实现赶超难上加难 。 彼时 ， 国家政策扶植力度减小、“造不如买 ， 买不如租”思想大肆兴起 ， 加之1996年《瓦森纳协定》对我国实行了技术封锁 ， 因此 ， 长期以来我国光刻机发展几乎陷入停滞 。
好在 ， 我国并没有放弃光刻机的研制 。 身为中国光刻机第一巨头的上海微电子 ， 在百般困难之下 ， 于2007年推出首台90nm工艺投影光刻机 。 但是阻碍也随之而来 ， 西方对上海微电子进行禁运 ， 这台大部分关键元器件来自国外的光刻机 ， 也因此无法量产 。
而且 ， 我国对于光刻机的研究力量分散 ， 难以将力量集结起来 。 并且 ， 我国薄弱的基础研发与产业积累都使得光刻机的研发困难重重 。 照目前进度来看 ， 国产光刻机与ASML之前有着至少几十年的巨大差距 。 而且 ， 我国被卡脖子的不止光刻机 ， 在芯片材料、制造等诸多领域都有明显落后 。
【光刻机|中科院删掉5nm新闻，落后的国产光刻机，何时能追上国际？】而且 ， 资本炒作现象使得我国芯片行业出现了虚假繁荣 。 不过 ， 随着国家对集成电路行业的关注 ， 以及众多脚踏实地企业成果的亮相 ， 国产芯并不是没有突围的希望 。
文/BU 审核/子扬 校正/知秋
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