章子怡|华为有救了？中科院的5nm光刻技术，并不是你想的那样
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大家都知道 ， 一款5nm芯片想实现量产最重要的有两个点：设计和制造 。 就设计而言 ， 其实已经有不少厂商能够做到 ， 但苦于没有制造能力 ， 只能寻求供应商 。
而全球仅有的几个供应商 ， 也只能依赖美国的技术完成量产 ， 比如台积电、三星 。 所以这也是华为目前最大的困难 ， 虽然可以自主研发和设计芯片 ， 但这些东西没法被制造出来 ， 确实是有苦难言 。
这也导致它目前只能采用其他芯片 ， 上半年已经有多款新发布的手机与联发科合作 ， 虽然性能也算是不错 ， 但始终让人感觉差了那味 。
正当我们以为华为的未来不明确时 ， 网上都在纷纷欢呼：中科院在5nm光刻机上有了重大突破、中国有了自己的5nm光刻机、华为有救了等等消息 。
他们表示 ， 中科院官网刊登了一篇报道 ， 关于苏州纳米所等在超高精度激光光刻技术研究中获得巨大进展 ， 团队开发了一种新型三层堆叠薄膜结构 ， 可以实现5纳米的特征线宽 。
这里简单说明一下 ， 因为ASML的极紫外光刻技术已经非常领先 ， 中科院为了达到这一效果 ， 只能选择这一不同的办法 ， 希望可以追赶上ASML 。
乍一看下来 ， 似乎中科院这一消息就是雪中送炭 ， 接下来就等着他们按部就班的研发 ， 到时候给我们带来更大的惊喜 。
【章子怡|华为有救了？中科院的5nm光刻技术，并不是你想的那样】那如果成功了 ， 华为是不是就有救了呢？
首先大家要知道 ， 中科院的这个技术 ， 最后的目的是为了实现纳米狭缝电极阵列结构的规模生产 ， 实际上并非集成电路 ， 所以压根就不是指芯片制造 。
而且目前国内的光刻机也还在90nm这个节点 ， 只能用于90nm芯片的制造 ， 可以说就是手机中的“低端机” 。 ASML则是当代最强 ， 已经可以用于5nm的生产 ， 如果算的话 ， 两者中间隔了差不多10年以上的技术含量 。
虽然目前很多产品都需要光刻 ， 但别看到光刻技术 ， 就觉得一定要用到光刻机 ， 这里面还是有着巨大差别的 。 中科院这个技术 ， 压根就没有提到光刻机的问题 ， 所以并不等于具备了5nm光刻机的生产力 。
另外 ， 他们还明确指出 ， 这项技术只是在实验阶段完成 ， 要实现商用 ， 还需要大量的成本和时间 ， 当然 ， 良品率也是能否达到标准的重要指标之一 。
所以说 ， 以现阶段来看 ， 中科院的新型5nm高精度激光光刻技术对华为并没有任何帮助 ， 甚至很有可能压根就不是同一个东西 ， 华为的处境依旧十分艰难 。
但别的不说 ， 中科院这一消息 ， 至少就不是件坏事 ， 我们能看到中国在光刻技术上的进步 ， 这就是一件值得高兴、值得庆祝的事情 ， 希望国产技术越来越强大 ， 早日走出被别人困住的局面 。
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