阿里巴巴|特朗普事与愿违，国产团队再获突破，华为“翻盘”几率增加？
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随着美国禁令的逐渐加深 ， 国人对芯片行业的认知也在不断加大 ， 越来越多人开始意识到我国在半导体芯片基础方面薄弱的事实 ， 华为芯片出现问题其实是很多人都没有料到的一个事情 。 客观来说 ， 华为应该早已经料到美国会使用芯片断供这种手段 ， 之所以这次华为没有拿出备胎 ， 主要还是目前国产企业没有一家能满足华为的要求 。 所以不少人也都开始纷纷期待国产团队能努力研发 ， 早日实现突破 。
华为事件暴露国产芯片弊端
从华为的事件当中我们不难看出 ， 其实华为主要面临的问题并不是这所谓的芯片设计 ， 毕竟华为有V8的永久使用权 ， 华为的主要难题体现在制造方面 。 不管是台积电还是中芯 ， 手中都在使用美国的技术和设备 ， 所以也就导致这些企业无法与华为达成合作 ， 毕竟谁都不想招惹是非 。
归根结底 ， 国内企业无法造出高端芯片总共有两大原因 ， 首先就是技术方面受到限制 。 国内最著名的晶圆体工厂中芯国际目前仅在14nm芯片开始量产 ， 更高端的7nm和5nm目前还没有相关技术突破 ， 所以和台积电、三星这种企业之间也存在着较大的差距 。
其次就是光刻机的缘故 ， 由于光刻机设备目前主要由荷兰的ASML研发和生产 ， 众多国家提供技术支持 ， 而中芯却又一直拿不到高端光刻机 ， 所以光刻机也是目前阻碍国内芯片制造行业发展的一道门槛 。 虽说国内有上海中微在搞研发 ， 但是与ASML之间的差距还相差很多 。
国内团队传“捷报’ ， 芯片技术再获突破
而近日 ， 一则消息传来 ， 我国在激光光刻工艺方面的研究有所进展 。 我国相关的纳米技术研发部门传来了一个好消息 ， 发现了一种新型的5nm高精度光刻加工工艺方式 ， 而这种方式打破了传统激光直写方式的一些限制 ， 有效提高了精度 ， 给芯片制备等领域带来了更多的发展空间与前景 。
而传统的直写光刻机技术属于无掩膜技术的一种 ， 除了无掩膜技术 ， 目前主流的芯片技术还包括极紫外光刻技术也就是我们经常听说的EUV技术 ， 以及纳米压印技术 。 而此次国内团队在高精度光刻机技术方面的突破对国内芯片制造技术可谓是一次“雪中送炭” ， 其中影响最大的可能就是中芯和华为了 。
特朗普事与愿违 ， 华为“翻盘”几率增加
尤其是对于华为来说 ， 国内团队的突破更是增加了自己的“翻盘”几率 ， 因为光刻技术的突破对于芯片的制造来说有着不可言喻的作用 ， 一旦未来实现了大规模应用 ， 那么华为肯定会成为其中的“受益者” ， 所面临的问题将会迎刃而解 。 不仅如此 ， 甚至还有可能帮助中芯国际缩短与台积电之间的差距 。
国产团队的突破想必也令特朗普始料未及 ， 自己一边打压华为 ， 华为却一直接二连三地迎来助攻 。 先是台积电帮助华为 ， 劝说其他客户腾出产能 ， 然后又是联发科与华为达成合作 ， 为华为供给芯片 ， 如今我国还突破了相关的高精度光刻机技术 。 种种情况对于特朗普来说可谓是事与愿违 ， 本想打压华为 ， 但如今却得到了这种结果 ， 可以说是有点难受 。
【阿里巴巴|特朗普事与愿违，国产团队再获突破，华为“翻盘”几率增加？】你认为这项新技术会在什么时候能大规模实现应用呢？
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