酷玩实验室|是技不如人还是咋回事？，中芯国际用不上EUV光刻机( 二 ) 不等EUV光刻机入手

没错，和第一印象截然相反，光刻机的工作原理其实和雕刻关系不大，实际工艺流程更接近于照相和版画；既然如此，我们当然可以活用一下摄影和印刷行业的工艺套路，把芯片的制程提升到全新的高度：

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重复遮盖，多重曝光，再配合浸入式结构，最终在晶圆上加工出远远窄于光源波长的物理结构，这就是光刻机工艺的LELE（Litho-Etch-Litho-Etch）技术。
不过，虽然通过特殊的技术手段，我们确实可以在不使用EUV光刻机的前提下，生产出当前主流的7nm制程芯片（目前市面上的高通骁龙865就是这么制造出来的），但和采用EUV工艺生产的芯片相比，在加工精度和性能表现上，传统工艺制造的7nm制程芯片确实逊色一筹。

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不仅如此，多重曝光在提升了加工成本的同时，复杂的工序也导致成品芯片的良品率明显要低于光源波长更短、曝光次数更少的EUV工艺7nm芯片——很明显，对于任何商业化组织来说，这种直接影响性价比的工艺绝对不是最优解。
最后，从目前行业主流的技术发展来看， 7nm（包括等效）制程基本是传统DUV光源光刻机的极限，想要突破这个制程参数， EUV光刻机几乎是不可或缺的。

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综上所述，关于“中芯国际的项目用不上EUV光刻机”这个话题，我们基本可以这样理解：
作为目前国内最领先的芯片加工企业，中芯国际的技术水平肯定是毋庸置疑的， 7nm等效制程的工艺已经处于验证阶段，理论上利用现有的光刻机设备也能实现加工；但是，想要满足商业化生产供应的需求， EUV光刻机依旧是必不可少的，只要半导体产业上下游的厂商能够通过自研技术补全这个失落环节，作为芯片代工厂的中芯国际，追赶国际同行的步伐并不会太慢。
还是那句话，再给我们半导体的行业一点时间吧。

酷玩实验室|是技不如人还是咋回事？，中芯国际用不上EUV光刻机( 二 )

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