『光刻机』上海微电子2007年成功量产90nm光刻机，13年后的今天，依旧是90nm
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国产最强的光刻机厂商是上海微电子 ， 能够量产90nm制程工艺的光刻机 ， 相当于2004年intel奔四处理器的水平 ， 可以满足国防和工业芯片的需求 ， 也就是说在极端情况下 ， 国内仍然有芯片可用 。 最新消息 ， 上海微电子将于2021年 ， 交付28nm光刻机 ， 然而与荷兰最先进的EUV光刻机 ， 仍然有巨大的差距 ， EUV光刻机能够生产5nm工艺的芯片 。
公开资料显示 ， 上海微电子成立于2002年 ， 2007年研发成功了国内首台90nm工艺光刻机 ， 经过多年的发展 ， 上海微电子占据了80%的低端光刻机市场 ， 虽然上海微电子在国内光刻机市场数一数二 ， 然而放眼全球 ， 距离第一名的ASML ， 以及第二三名的日本佳能和尼康 ， 仍然有很大的差距 。
不过值得一提的是 ， 据5月17日消息上海微电子将会在2021年交付首台国产的ARF光源28nm制程工艺光刻机 ， 即便与荷兰ASML的EUV光刻机有近20年的差距 ， 依旧是一个很大的进步 。
国产光刻机起步较晚 ， 早在60年代 ， 我国曾经自主探索光刻机技术 ， 并且取得了当时世界比较先进的技术 ， 那时ASML还没有诞生 ， 日本尼康和佳能刚刚进入这个领域 ， 然而遗憾的是80年代 ， 放弃了电子工业的自主攻关 ， 流行“造不如买”的思想 ， 光刻机等科技项目被迫下马 ， 当时造出3微米光刻机的武汉无线电元三厂 ， 也被迫改制 ， 卖副食品 ， 到了2002年上海微电子才成立 ， 零起步开始了光刻机研究 。
【『光刻机』上海微电子2007年成功量产90nm光刻机，13年后的今天，依旧是90nm】
第二是技术封锁 。 荷兰ASML最先进的EUV光刻机 ， 90%的关键零部件来自于外来 ， 美国的光源和计量设备、德国的镜头、法国的阀件、瑞典的轴承 ， 最麻烦的是这些超精密仪器和设备是禁运的 ， 上海微电子也只是系统集成商 ， 关键零部件并不是自己生产 ， 只有国内供应链完善 ， 才能发展下一代光刻机 ， 这也是从90nm到28nm ， 用了13年的原因 。
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