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#光刻机#南大光电突然宣布！国内光刻机有望“破冰”，日本、美国始料未及


#光刻机#南大光电突然宣布！国内光刻机有望“破冰”，日本、美国始料未及
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#光刻机#南大光电突然宣布！国内光刻机有望“破冰”，日本、美国始料未及
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#光刻机#南大光电突然宣布！国内光刻机有望“破冰”，日本、美国始料未及
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南大光电宣布好消息
自从华为承受美国的打压以来 ， 国内对于芯片技术层面上的突破就显得尤其重视 ， 毕竟谁也不想被美国总拿这个“卡脖子” 。 但是碍于光刻机研究进展的缓慢 ， 国内的芯片技术一直没能取得大的成绩 。
芯片技术
有人可能会问光刻机和芯片有什么关系 ， 光刻机的进展缓慢为什么能影响到芯片技术？其实简单点来说 ， 光刻机就是芯片生产过程中必不可少的机器 ， 也就是说 ， 没有高端光刻机就无法生产出顶级的芯片 。
光刻机
国内对于光刻机的研究已经持续很长时间了 ， 但是在高端光刻机上还是没能突破 ， 并且就算是想进口 ， 别人也不乐意卖给我们 。 这个时候 ， 我们唯一的办法就只有努力研究了 ， 争取早日研究出国产高端光刻机 。
其实在芯片制造过程中还有一种非常重要的技术 ， 那就是光刻胶技术 ， 如果没有光刻胶 ， 就算你有高端光刻机也是白费 ， 可以说光刻胶技术也是一种非常重要的技术 。
光刻胶
近日 ， 国内的南大光电就传出了一个好消息 ， 正与光刻胶技术相关 。 南大光电传出消息：目前国产ArF光刻胶取得了重大的突破 ， 可以用于7nm工艺 ， 即将进入量产及销售阶段 。
南大光电
这也就意味着国内在光刻机顶尖技术中取得了巨大的突破 ， 并且能在光刻胶市场分一杯羹 。 要知道在之前的光刻胶市场 ， 国内基本上是排不上号的 。 此次南大光电完成技术突破不仅能帮助我们占据更大的市场 ， 还能给予国内光刻机研究更多的信心 。
日本、美国始料未及在之前的光刻胶市场 ， 日本和美国两者加起来差不多占据了90%的市场 ， 也就是说二者对光刻胶有着绝对垄断的技术 。 但是此次南大光电完成突破 ， 让日本、美国始料未及 ， 也证明了即使不依赖国外的技术 ， 国内也能发展得很好 。
光刻胶
据公开资料显示 ， 之前在全球光刻胶市场排行前五的公司 ， 有四家来自于日本 ， 第五名来自美国 。 可见日本在光刻胶领域基本上是全球领先 ， 就连美国也只是在他身后喝汤 。
但是日本也造不出高端光刻机 ， 因为仅仅掌握顶尖的光刻胶技术远远不能满足于高端光刻机的制造 。 这是因为高端光刻机是多种顶尖技术的复合 ， 不是只需要其中一种就能行的 ， 你需要同时掌握多种核心技术才有可能造得出来 。
高端光刻机
显然 ， 高端光刻机的制造要比掌握顶尖的光刻胶技术难得多 。 这也给我们提了个醒 ， 我们不能因为在光刻胶领域取得了突破就沾沾自喜 ， 我们要清楚 ， 我们离造出高端光刻机还有很远的距离 。
但是我们也不能因此气馁 ， 因为高端光刻机是我们必须攻破的领域 ， 不然的话 ， 以后就会因为缺失这方面的技术而发展处处受限 。 为了现在的情况以及长远的打算 ， 高端光刻机的研究是很有必要的 ， 国内应该大力支持！
总结南大光电传出在顶尖光刻胶上有所突破的消息值得我们开心 ， 这无形之中给国内的光刻机研究增添了许多信心 ， 也给我们国内的科研工作者带来了希望 。 如果光刻胶技术都能完成突破的话 ， 那么光刻机研究一定也能成功突破！


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