半导体光掩膜市场创新高，光刻关键材料或加速国产替代，关注2股
2019年的半导体光掩膜市场继续刷新历史新高 ， 与2018年相比同比增长15% ， 增至4,915亿日元（约人民币294.9亿元） 。 由于EUV光刻（Lithography）量产工程的导入、以中国为首的新兴企业设计活动的兴起 ， 以及光掩膜自制厂家逐步把EUV光掩膜投入到TSMC等的最尖端的工艺中 ， 导致光掩膜市场出现较大增长 。 2019年 ， EUV光掩膜市场规模已超过1,000亿日元（约人民币60亿元） 。 继最先导入了EUV的“N7+”代之后 ， TSMC计划在2020年开始量产“N5” 。 据预测 ， “N5”有10层以上（是以往的2倍）的EUV层 。 同样 ， 三星电子也完成了华城地区的EUV专用产线“V1”的建设 ， 且把5nm定位为“反攻”的主要手段 ， 预计未来EUV光刻的消费将会迎来巨大的增长 ， 2020年以后EUV光掩膜还将出现继续增长的趋势 。
光掩膜也称为光罩、掩膜版 ， 是微电子制造中光刻工艺所使用的图形母版 ， 是光刻环节中的关键材料 。 近年来 ， 国内面板、半导体及PCB电路板市场持续增长 ， 拉动光掩膜市场需求不断上行 。 据IHS统计 ， 2018年中国光掩膜市场达到全球市场的40% ， 预计2020年将快速上涨到56% 。
点评：目前专业生产光刻掩膜版的厂家主要集中在台湾、日本、韩国等国家和地区 ， 市场集中度高 ， 国内产品仅能满足中低档产品需求 。 目前国内光掩膜国产化率仅约20% ， 随着光掩膜下游市场的扩展 ， 国产化替代空间巨大 。
清溢光电（688138）公司主营掩膜版的研发、设计、生产和销售 ， 高精度平板显示用掩膜版产品的生产技术已达到国际水平 。
菲利华（300395）是国内唯一一家可以生产大规格光掩膜基板的企业 。
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