光刻机和刻蚀机的区别中国能产22nm的刻蚀机，还需要光刻机吗
有区别，你去看看半导体芯片上的集成电路工艺就知道了！说简单就是先镀层膜方法很多，形成集成电路或薄膜，在涂光刻胶，在通过光刻机曝光，形成图像，再显影，然后刻蚀有干刻湿刻之分，然后去掉光刻胶，就形成了所需电路！
■网友
需要。刻蚀相对光刻要容易。光刻机把图案印上去，然后刻蚀机根据印上去的图案刻蚀掉有图案（或者没有图案）的部分，留下剩余的部分
■网友
他俩是前后两道工序，不是一个东西
【光刻机和刻蚀机的区别中国能产22nm的刻蚀机，还需要光刻机吗】
■网友
没光刻机怎么做图案
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