极紫外光刻还有实际意义么有啊

有啊，euv出来后, 193i做两次的，它做一次就行了。euv的对准精度高，mutiple patterning 很难做的图案,euv能轻易的做出了。按照现在的etch技术，单纯的mutiple patterning是不能做出20nm以下的线，线的ler太大，可能断裂。mutiple patterning还有很多问题，如分解算法可能是npc问题，即使有近似算法，但是不能保证每个版图都能分解，不能分解的版图要更改设计，还有hot pot的问题。其他的光刻技术如dsa,samp和ebeam也有很多自己的问题，这三个技术都能做出5nm的线，但是dsa的defect太多，不能做复杂的版图，目前主要在实验阶段，samp没有有效的版图分解算法，只在存储器电路版图中应用了，逻辑电路完全不行。ebeam的效率太低。反正euv出来后能提高良率，节省成本。
■网友
EUV来不及用于10nm或是7nm节点很可能已经是板上钉钉的事情，但并不能说EUV就完全没有意义了。现阶段193nm深紫外光源单次曝光已经达到了分辨率极限，只能通过多重曝光等技术来进一步提高分辨率，但这些技术不能是从本质上提高193nm的分辨率。由于开发一种光源波长光刻系统所用的时间成本和资金成本极大，工业界肯定会竭尽所能延长现阶段成熟光刻系统的寿命。 EUV系统现在还面临着诸多问题，其中最大的问题是光源功率太小达不到量产要求。但听说ASML已经计划于明年量产EUV光刻机，不知道他们把问题解决到什么程度了。
■网友
EUV7nm切入根据TSMC的3300B的反馈产率及目前公司透漏的信息，功率已不是问题稳定性与重复性开始重要了，就是这周你每天可以刻几千片，你不能保证下周还能每天几千片

极紫外光刻还有实际意义么

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