极紫外光刻|挑战EUV光刻：NIL靠谱吗？一文秒懂( 三 )
铠侠表示 ， NIL 技术与EUV光刻技术相比 ， 可以大幅度的减少能耗 ， 转化效率高 ， 耗电量可压低至EUV 技术的10% ， 同时 ， NIL设备也很便宜 ， 投资可降低至EUV光刻机的40% 。
【极紫外光刻|挑战EUV光刻：NIL靠谱吗？一文秒懂】有专业人士指出 ， NIL技术也许能够推进芯片制程至5nm ， 但可能更适应于NAND这种3D堆叠的闪存芯片 ， 不一定适用于所有芯片 。合作厂商之一的佳能 ， 则表示要努力将NIL 量产技术广泛应用于制造DRAM 及PC 用的CPU 等逻辑芯片的设备上 。
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