张子旸|中科院：5nm实验室技术实现大飞跃
现在当今世界 ， 5nm芯片生产工艺可以说是最尖端的科技 ， 国内现在最先进的中芯国际公司也才刚刚突破N+1生产工艺 ， 能够实现大概7纳米生产工艺水平 。 近日中科院表示张子旸团队光刻方面取得研究进展 ， 在5nm光刻工艺上研发出来一种新型的5nm芯片的加工方法 。 当前在5纳米芯片加工生产中 ， 主流生产技术是光刻技术和极紫光光刻技术两种 ， 而张子旸团队的5nm工艺则是在无掩模光刻技术上的一项研究 。 传统中的无掩模光刻技术的成本非常低 ， 但是激光的精度却难以掌控 ， 这也是这项技术难以量产应用的原因 。
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而这次 ， 张子旸团队进行研究的就是无掩膜光刻技术 ， 这次研究通过双激光束交叠技术达到了5纳米的光刻精度 ， 能够实现5纳米芯片的生产 。 这样的技术不仅让无掩模光刻机光刻精度大大提升 ， 达到了生产5nm芯片的要求 ， 而且生产效率也有所提高 。 据中国微米纳米技术学会报道 ， 中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所张子旸研究员 ， 与国家纳米科学中心刘前研究员合作 ， 在其发表的论文讲述了该团队开发的新型 5 nm 超高精度激光光刻加工方法 。
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当然 ， 这个还是一个实验室的技术 ， 想成功应用到生产当中去 ， 可能还需要不短的路要走 ， 但是毕竟5nm光刻新技术已经实现突破 ， 接下来只要在设备制造和生产商再次获得突破 ， 那么未来可能5nm直刻技术就能够很好的应用到生产中去 。 而且现在张子旸团队在5纳米芯片生产研发获得突破 ， 采用的设备应该全部是自研设备 ， 如果未来这项技术能够获得量产的话 ， 那么我国芯片制造产业可能将会实现飞跃发展 。 甚至未来有可能一改世界芯片制造设备生产的格局 ， 可能让ASML就会难受 。
【张子旸|中科院：5nm实验室技术实现大飞跃】
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从现在来看 ， 国内在芯片制造领域内也在做两方面的准备和研究 。 一个是激光直刻技术 ， 一个就是在研发更先进的EUV光刻机 。 如果这两个芯片光刻方面的顶尖设备和顶尖生产技术 ， 科研院所以及企业能够获得更快的突破 ， 那么未来我国生产5纳米芯片 ， 甚至是更先进的3纳米 ， 2纳米的芯片都将成为可能 ， 那么未来我国的芯片产业发展将会发展的更好 。
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