不用EUV光刻机！芯动科技正式官宣，国产7nm芯片打破国外垄断
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我们都知道 ， 美国禁令之下芯片问题已经成为了当下科技圈最热的话题 ， 这其中的原因除去芯片本身在科技发展中具有不可替代性之外 ， 还因为我国半导体产业在这一块确实存在非常严重的“卡脖子”情况 。
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我们能造几纳米芯片？
就目前来看 ， 当前国际一流的芯片大多采用7nm制程工艺制造 ， 但是拥有7nm及以下工艺的目前全球却只有台积电和三星两家 ， 而且美国技术的占比还非常高 。 比如根据台积电公布的官方数据 ， 其14nm和7nm工艺美技术占比就在15%以上 。
那么如果完全不用美国技术 ， 我们能够造出多少纳米的芯片呢？根据倪光南院士的说法 ， 国内能够独立自主制造28nm光刻机 ， 同时也具备28nm乃至14nm工艺芯片制造能力 。
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不过这里需要说一下的是 ， 目前我国最先进的国产光刻机还是90nm级别 ， 至于最新的28nm国产光刻机 ， 根据上海微电子的透露 ， 预计两年内便可线下 。
所以 ， 目前的情况是 ， 如果仅凭现有的技术 ， 那么我们可以制造28nm甚至14nm芯片 ， 但是如果要制造更高端的7nm ， 5nm芯片 ， 那还是得依靠荷兰的EUV高端光刻机 。
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芯动科技正式官宣
【不用EUV光刻机！芯动科技正式官宣，国产7nm芯片打破国外垄断】但是现在情况不一样了 ， 近日芯动科技正式官宣 ， 国产7nm芯片打破外国垄断 ， 就算不用EUV光刻机也能造出7nm芯片！
根据芯动科技在10月11日公布的消息 ， 其已经完成全球首个基于中Xin国际FinFETN+1先进工艺的芯片流片和测试 。 值得注意的是 ， 此次所有IP全自主国产 ， 功能也是一次测试通过 。
这个FinFETN+1工艺有什么特别的呢？根据业内大佬梁梦松在今年早些时候的透露 ， 该工艺生产出来的芯片和台积电14nm芯片标准相比 ， 性能提升20% ， 功耗降低57% ， 在功率和稳定性方面几乎与台积电7nm工艺等同 。
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而这也就意味着 ， 就算是不用EUV光刻机 ， 只用普通的光刻机 ， 再搭配上FinFETN+1工艺就可以制造出等同于台积电的7nm芯片 。
更重要的是 ， 正如芯动科技所官宣的那样 ， 此次所有IP全自主国产 ， 完全不用担心卡脖子问题！
此外 ， 目前该消息已经上了《珠海特区报》 ， 并且获得高度赞誉：“芯动科技首个基于中芯国际先进工艺的芯片流片和测试成功 ， 不仅意味着具有自主知识产权的‘国产芯’再次打破国外垄断 ， 同时也说明‘国产版’的7nm芯片制造技术已经得到突破 。 ”
芯片是人造的 ， 不是神造的
关于芯片制造 ， 比亚迪的老总王传福曾经喊出了这样一句口号：“芯片是人造的 ， 不是神造的” 。
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事实上也的确如此 。 当芯片制造被卡脖子时 ， 网络上铺天盖地的都是科普芯片制造有多么难 ， 甚至于台积电创始人张忠谋在早些时候也曾说“即便大陆举国之力发展芯片制造 ， 也难以取得成功” 。
但是实际上 ， 就拿光刻机来说 ， 被誉为“人类工业皇冠上的明珠” ， 荷兰ASML公司总裁就直言：“给中国人图纸也造不出高端光刻机” ， 同时还有很多人说造光刻机比造原子弹还要难 。
而事实上呢？造光刻机确实很难 。
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以荷兰EUV光刻机为例 ， 不仅重量高达180吨 ， 而且内部零件有8万多个 ， 仅仅是安装、调试就要花一年时间 。
更重要的是 ， 它是一件集美国光源设备、日本的光学技术、德国的机械工艺、瑞典的轴承等等各国尖端工艺的精密设备 ， 单凭一家企业确实很难在短时间内做出来 。
但是别忘了 ， 当初造原子弹的时候我们是什么样的一个科技基础 ， 现在又是一个什么样的科技基础？当初一穷二白都能造出原子弹 ， 现在已经能够造出90nm国产光刻机 ， 甚至于两年内便能下线28nm光刻机 ， 有这样的基础在还能造不出高端国产光刻机？
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更何况 ， 就在前一段时间 ， 中科院院长白春礼已经亲自出面表示 ， 将发挥“集中力量办大事”的精神 ， 集全院之力攻克包括光刻机在内的技术难题 。 如此一来 ， 还用担心光刻机的问题吗？
现在芯动科技的官宣 ， 证明我们的国产7nm芯片已经打破国外垄断 ， 接下来应当就是关于国产7nm工艺的大规模应用 。
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写在最后
还是那句话 ， 芯片是人造的 ， 不是神造的 。 别人都已经造出来了 ， 证明了这件事的可行性 ， 我们又有基础在 ， 那么接下来的发展就是拼人力和物力 。
不管别人怎么说 ， 我们不可能因为一件事很难 ， 就不去做了 。 相反 ， 我们之所以会感觉一件事很难 ， 恰恰正是因为不想做才会很难！期待中国半导体产业能够后来居上！
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