打破技术垄断！中国芯再迈一大步，高端光刻机喜提新进展
随着美国对芯片的限制 ， 我国不得不开启自研计划 。 经过多年的努力之下 ， 我国再次打破技术垄断 ， 高端的光刻机喜提新进展 ， 而这也说明我国的制造业将再迈一大步 。
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美国对芯片的限制
我国目前的发展速度是非常快的 ， 在科技方面取得巨大的突破 ， 但也迎来了一些国家的恶意为难 ， 那就是美国 。 随着我国华为在技术上取得突破 ， 因此美国也在利用自己的优势向华为施加压力 ， 毕竟我们无法自己研发高端的芯片 ， 因此也是离不开美国的而一些工厂 。 美国的限制 ， 也说明目前使用的一些高端芯片或将停产 。 但面对这样的办法 ， 我们只能依靠自己才能完全打破他们的技术垄断 。 
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中国技术取得突破
但要想研发高端的芯片 ， 必须要使用光刻机 ， 尽管目前我国在该领域取得突破 ， 但相比西方国家 ， 我们还是有些距离的 。 据了解 ， 我国的上海微电子有很大的几率完成首个28nm的光刻机 。 这对于我国而言无疑是个巨大的突破 ， 并且我国又取得了一个巨大的进步 ， 那就是1.5米扫描干涉场曝光技术 。 经过7年的努力 ， 最终也是打破了西方的技术垄断 ， 这也说明我国在高端光刻机上取得了巨大的进展 。 
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【打破技术垄断！中国芯再迈一大步，高端光刻机喜提新进展】据了解 ， 这个仪器的很多技术都达到了国际水准 ， 甚至也表示我国有了能制造米级单位的无拼缝全系光栅能力 。 如今 ， 我国在该领域只有前进才是唯一的出路 。
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