华为|华为好事接连到来！俩国家明确对华为表态，光刻机技术也有新突破( 二 )
要知道 ， 扫描曝光系统只是光刻机的一项重要技术 ， 而光刻机又只是芯片制造工艺的一个重要设备 ， 也就是说 ， 中国在光刻机技术方面再度实现突破 。
毕竟该项目仪器的多项技术指标已经达到国际领先水平 ， 标志着我国具备了独立制作米级单体无拼缝全息光栅的能力 ， 对高能激光、高端光刻等领域的技术和产业推进都具有重大的战略意义 。
其实 ， 除此之外 ， 在光刻机技术突破方面 ， 还有多个好消息 。
例如 ， 首台国产的28nm的光刻机有望在明年交付 ， 该光刻机经过改良后 ， 完全可以生产10nm等制程的芯片 。
另外 ， 国内厂商华卓精科生产的光刻机双工件台 ， 不仅打破了ASML公司在光刻机工件台方面的技术垄断 ， 还成为全球第二家掌握此项核心技术的公司 。
也就是说 ， 随着光刻机技术的逐渐突破 ， 国内厂商生产先进制程的芯片 ， 更是指日可待 。
更何况 ， 华为也表示继续保持对海思的投资 ， 同时会帮助前端的伙伴完善和建立自己的能力 。
所以才说华为好事接连到来 ， 无论是5G订单还是芯片技术 ， 这都对华为有利 。
对此你们怎么看 ， 欢迎留言、点赞、分享 。
【华为|华为好事接连到来！俩国家明确对华为表态，光刻机技术也有新突破】
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