|“我们唯一一台7nm光刻机被抵押”说法的种种错误
纠正一下“我们唯一一台7nm光刻机被抵押”这种说法 。
光刻机没有7nm或者28nm这种称谓 ， 武汉弘芯被抵押的是 ASML生产的浸入式NXT 1980Di DUV光刻机 ， 与其最新的2000i DUV光刻机一样 ， 都采用了193nm的深紫光源 ， 单次曝光最大分辨率支持到38nm 。 DUV光刻机是通过多次曝光技术才突破到10nm工艺之内 。
武汉弘芯被抵押的NXT 1980Di DUV光刻机 ， 被验证过的最高制程工艺只支持10nm 。 多重图像工艺虽然可以将单次曝光的38nm能力提升到7-10nm ， 但是代价是翻倍的加工步骤、骤降的吞吐量和更高的加工成本 。 这也是英特尔用深紫技术一直没有取得10nm量产的根本原因之一 。
高端光刻机是定制性极强的设备 ， 拥有顶级设备 ， 不一定就代表拥有了高制程芯片的加工生产能力 。 只有NXT 2000i DUV光刻机可以在深紫级抵达第一代7nm制程工艺 ， 这需要晶圆厂商有较高的应用技术 ， 以及无数次的验证以提高良品率 。
武汉弘芯被抵押的NXT 1980Di DUV光刻机不是大陆唯一一台可以支持高制程工艺的光刻机 。 目前中芯国际正在进行客户产品导入阶段的所谓n+1工艺 ， 是接近7nm制程的 ， 它其实就是使用193nm DUV光刻机 ， 再加上多重曝光技术 ， 对14nm/10nm节点进行极限延伸 ， 请注意极限两个字 。 中芯国际在今年3月份进场的ASML光刻机 ， 极有可能就是NXT 2000i DUV光刻机 。
【|“我们唯一一台7nm光刻机被抵押”说法的种种错误】武汉弘芯在疫情前 ， 就将NXT 1980Di DUV做了抵押 ， 一台全新尚未启用的价值上亿的芯片设备 ， 躺在银行仓库里 ， 没有发挥作用 ， 很令人痛心 。 希望各方面能尽快解决问题 ， 在我们半导体产业亟需各种资源的时候 ， 发挥它应有的作用 。
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