那些年向前冲|中国光刻机落后国际7年，谁曾想，深埋50年“地雷”被ASML发现？
大家都知道 ， 前段时间国产5纳米芯片技术突破的消息突然出现 ， 之后该新闻又被及时删除了 ， 据了解 ， 这是一种新型的5纳米激光光刻加工方法 ， 使用了完全具备知识产权的激光直写设备 ， 不仅如此 ， 这项技术还能够实现一个小时制造5*105个纳米狭缝电极 ， 由此可见 ， 这完全展现出了能够实现量产的能力 。
如果不是这次新闻的发布 ， 可能大家都不知道 ， 原来早在1965年的时候 ， 我国就已经开始了光刻技术制造芯片的研发 ， 所以光刻技术对于我国来说并不是一种新的工艺 ， 而且在上个世纪清华大学精密仪器系和中科院中电科 ， 就已经开始光科技的研制了 ， 因为其研发的原理是和投影仪比较类似的 ， 就是以激光为刀刃 ， 将设计好的电路图投射在硅片上 ， 实现数百亿个晶体管的集成 。
可现实情况就是 ， 尽管我国早在50年前就已经开始光刻机的研发了 ， 但是目前却落后了国际市场7年 ， 谁曾想这个是买了50多年的“地雷”被ASML早发现了一步 。 尽管在那个时候 ， 我国科技学家早就意识到了光刻技设备和工艺的重要性 ， 只有提高光刻技术 ， 才能够让半导体设备的研发超过世界的水平 。 但是实践才是检验真理的一切标准 ， 留在纸上的东西只能是留在纸上的东西 。
而那个时候ASML成立了 ， 并开始脱胎飞利浦实验室发展 ， 一开始是准备与美国光科技企业进行合作的 ， 但是一个刚刚成立的小公司 ， 这些美国大佬是不愿意理他的 ， 之后美国有一个叫做ASM International荷兰小公司主动要求合作 ， 谁也没有预想到这一个小小的工作 。 从最开始的默默无闻到现在 ， 垄断了整个全球市场的光刻机发展 。 所以等我国真正的意识到 ， 这所谓的纸上谈兵是具有真正作战实力的时候 ，ASML已经抢先占据了市场 ， 并且还获得了美国技术的加持 ， 等到现在想要去突破的时候就更加难了 。
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