如颖随行|华为的第二次创业“塔山计划”，需要解决的问题是什么
国内顶级的芯片制造公司也是去国外见识过荷兰的光刻机生产车间 ， 整个流程走下来还是有非常多的震撼 ， 甚至还有人喊出来即使ASML把图纸全部给我们 ， 我们也很难复制下来 。 真的是这样吗？
随着华为“塔山计划”@华为终端 @余承东 的推出 ， 国内euv光刻机技术也呼之欲出；今年国家对芯片领域巨大的投入 ， 相信通过国家和华为的科研技术的整合和投入这些问题会迎刃而解；
下面我说一说我的理由 。 光刻机的关键部件 ， 光源 ， 透镜 ， 能量控制器等等 ， 其中光源技术最好的属于美国 ， 透镜主要是德国的蔡司镜头 ， 可以讲光刻机是人类科技集成的结晶 ， 而且欧美专门签署了一个《瓦森纳协定》针对中国的武器以及高科技的技术等 。
光源：光刻机为什么要用极紫外光呢？因为极紫外光能被很多材料吸收 ， 包括空气 ， 要使用极紫外光 ， 必须消耗电力把整个环境都抽成真空 。 极紫外光能被透镜吸收 ，因为这个特性 ， 将极紫外光集中到一起只能靠反射了 。 用硅与钼制成的镀膜反射镜 ， 可以用来集中极紫外光 。 但是极紫外光每被反射一次 ， 能量就会损失三成 。 极紫外光从光源出发 ， 经过十几次反射 ， 到达晶圆的时候 ， 只剩下不到2%的光线了 。 韩国企业海力士曾经说过 ， 极紫外光EUV 的能源转换效率只有 0.02% 左右 。
早在2017年年初 ， 中科院大连化学物理研究所和上海应用物理研究所联合研制的极紫外自由电子激光装置——大连光源 ， 在经过3个多月的调试后 ， 这个总长100米的大装置发出了世界上最强的极紫外自由电子激光脉冲 ， 单个皮秒激光脉冲产生140万亿个光子 ， 成为世界上最亮且波长完全可调的极紫外自由电子激光光源 。 中科院副院长王恩哥评价称：“大连光源是中科院乃至我国的又一项具有极高显示度的重大科技成果 。 装置中90%的仪器设备均由我国自主研发 ， 标志着我国在这一领域占据了世界领先地位 ， 为我国未来发展更新一代的高重复频率极紫外自由电子激光打下了坚实的基础 。
透镜：因为而极紫外光光刻机技术要求是极紫外（Extreme Ultraviolet ， EUV）光刻是一种采用波长13.5nm极紫外光为工作波长的投影光刻技术 ， 是传统光刻技术向更短波长的合理延伸 ， 这就需要在重要部件上下功夫 ， 使用波长短的极紫外光 ， 光学系统极复杂 ， 而位于光刻机中心的镜头 ， 由20多块锅底大的镜片串联组成 。 镜片的高纯度透光材料+高质量抛光 ， 而这些部件是中国设备所没有任何技术和研发成功的相关自己 ， 或许是处于保密我们不得而知；
能量控制器：这一技术也是目前没有任何相关科研进度消息 ， 或许同透镜一样没有攻破或者还没有实现小型化 。
后面这两项关键技术具体情况我们不得而知 ， 这也是我们正需要攻破的或许已经研发成功属于机密；
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