一个成品的芯片制作 ， 需要经历上千个工艺流程 ， 其中最主要的有：图纸的设计、晶圆打磨、光刻、蚀刻、切割die、封装测试等 。 而其中需要用到的几个关键的工具包括EDA设计软件、光刻机、蚀刻机 。 在芯片的设计上 ， 以联发科、中兴、华为为代表的国内芯片厂家都已经具备了高端5nm芯片的设计能力 ， 我国上海中微半导体公司也研发出世界首台5nm蚀刻机 ， 并且即将供应台积电使用 ， 但是在光刻机的研发上却还徘徊在14nm工艺 ， 光刻机真的那么难做吗？
光刻技术的发展史世界上第一只点接触式晶体管是在1947年贝尔实验室发明的 ， 并在1954年使用800只晶体管组装了世界上第一台晶体管计算机TRADIC ， 之后没多久美国半导体公司仙童研制出世界首个单结构硅晶片 ， 并成功研制出世界首块商用的集成电路 ， 从此为硅基芯片后来的发展埋下了伏笔 ， 所以第一台计算机可不是微软或者苹果研发出来的哦 。
光刻机的原理光刻的原理 ， 就是通过投影的方法将掩膜上面的电路图形照射在涂有光刻胶的硅圆上 ， 通过光照后的光刻胶会发生反应 ， 从而在晶圆上产生电路 ， 这种方式类似胶卷照相机照相一样 ， 照相机拍摄的照片是印在底片上 ， 而光刻是将图形印在了晶圆上 。 根据不同的芯片不同 ， 芯片内部的层数也会不同 ， 那么重复光刻和蚀刻的次数也是不同的 。 一般高端的芯片可以需要重复数次类似的工艺 。
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