救星终于出现！中科院首创2纳米芯片关键技术，或不再需要光刻机
中国几十年的飞速发展 ， 是所有国家都有目共睹的 ， 虽然说被称为“基建狂魔” ， 中国制造更是遍布了世界全球 ， 但是科技领域始终一直处于落后状态 ， 真正的救星终于出现 ， 并且还带来了首创的2纳米芯片技术 ， 光刻机的存在或许并没有那么重要了 。
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我们都知道想要制造芯片的话 ， 就必须要使用光刻机这一个先进的设备才行 ， 而中国掌握的最高技术仅仅只是45nm级别的 ， 而国外一些先进的光刻机公司 ， 已经研发到了7nm的级别 ， 由EUV深紫外光刻机完成 。
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这一个光刻机可以说是领域中的佼佼者 ， 面对全球投入使用了之后 ， 中国也是抢先购买一台 ， 可是已经缴费五年了 ， 这一台光刻机始终还没有发货 ， 不同级别的光刻机 ， 将会直接决定研发芯片的等级 ， 中国在科技领域处处受制 ， 就是因为没有半导体科技人才 ， 没有光刻机这样先进的技术设备 ， 否则的话也不至于处处陷于被动状态 。
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据悉中芯国际的首条14纳米生产线 ， 已经在上海正式投入使用开始量产 ， 下一代的12纳米技术也即将实现 ， 不断的突破让中芯国际绝处逢生 ， 掌握了更加先进的2nm芯片技术 ， 你们怎么看待这件事情？
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