光刻机|上海微电子刚突破到28nm光刻机，ASML已经有了7nm EUV光刻机
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【光刻机|上海微电子刚突破到28nm光刻机，ASML已经有了7nm EUV光刻机】
上海微电子刚突破到28nm光刻机 ， ASML已经有了7nm EUV光刻机 。 造出顶级光刻机很难 ， 但是上海微电子不会放弃！中芯国际、比亚迪半导体、华为等中国企业都在等着上海微电子的突破 。
光刻机是芯片制造的核心所在 ， 7nm与5nm性能过剩只是对于普通用户而言 。 科学领域依然需要高性能的芯片 。 没有高精度的光刻机就造不出高性能的芯片 ， 台积电能够承包全球近一半的芯片代工订单 ， 因为它有技术积累和最顶尖的光刻机 。
中芯国际同样有技术积累 ， 比不过台积电但也够用 。 N+1工艺与N+2工艺就是最好的证明 ， 给中芯国际一台顶级光刻机 ， 追赶台积电不是梦 。 比亚迪半导体是“新人” ， 有顶级光刻机路就会好走很多 。 华为启动“南泥湾计划” ， 芯片IDM模式需要靠谱的国产光刻机 。
上海微电子的压力很大 ， 花了十余年突破28nm光刻机 ， ASML又降维打击 。 上海微电子很难 ， 再难上海微电子也不会放弃！中国拥有完整的工业体系和光刻机的全部子系统 ， 落后是暂时！北斗造出来了、盾构机造出来了、刻蚀机造出来了 ， 顶尖的光刻机还会远吗？
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