|国产芯片终迎希望,巨头突破难题,7nm芯片已提上日程

|国产芯片终迎希望,巨头突破难题,7nm芯片已提上日程

文章图片

|国产芯片终迎希望,巨头突破难题,7nm芯片已提上日程

文章图片

|国产芯片终迎希望,巨头突破难题,7nm芯片已提上日程

文章图片

|国产芯片终迎希望,巨头突破难题,7nm芯片已提上日程

随着国产芯片备受打压之时 , 不少国内消费者在关注华为之余也开始了解芯片的制造设备——光刻机 。 作为制造芯片的核心设备 , 光刻机在该行业中占据着相当高的地位 , 随着荷兰ASML公司在光刻领域的亮眼表现 , 更是抢占了大量的市场份额 , 不管是是世界第一的台积电还是世界第二的三星 , 都要主动向ASML购买光刻机 。

EUV光刻机至关重要 , 但中芯屡遭挫折
而随着芯片工艺制造进入到了7nm之后 , 芯片的生产难度就越来越高 , 因为想要做出更加高端精密的芯片 , 光刻机的精度也就要越来越高 , 所以也就有了所谓的EUV技术 。 去年台积电给华为生产的麒麟9905G芯片 , 就是使用了EUV光刻技术 。

不过光刻机作为高端精密设备 , 每年的产量可谓是相当低 , 而高端光刻机的主要市场份额又被ASML所占据 , 正所谓“僧多粥少” , 台积电、三星、中芯、英特尔企业都想要买ASML光刻机 , 不难看出其抢手程度 。 但荷兰的ASML公司背后的主要股东却又是美国的企业 , 所以不管是台积电、三星还是英特尔 , 只要预定 , 基本上都能拿到光刻机 , 但唯独我国的中芯就不行 。

所以出于各种原因 , ASML的EUV光刻机设备始终都没有与中芯结缘 , 即便是之前中芯成功向ASML订购了一台光刻机之后 , 但是时至如今也并没有交货 。 所以不难看出我国在芯片领域当中的困境 , 不仅芯片的设计功力薄弱 , 甚至在制造方面也是困难重重 。

国产芯片终迎希望 , 中芯突破难题 , 7nm提上日程
而随着华为事件的不断发酵 , 国产芯片的自主化也是迫在眉睫 , 毕竟我们不能因为一个光刻机就一直延后芯片的发展 , 所以中芯国际在这段时间里一直都没有放弃自己的目标和追求 。 在之前梁孟松加入中芯之后 , 中芯就迅速突破了14nm技术并且大规模量产 。 与此同时 , 中芯能够媲美7nm更加高端的N+1技术也有所进展 。

根据梁孟松表示 , 中芯的N+1技术在芯片的功耗和大小方面相对于14nm来说都有着相当大的进步 , 所以从一些基本参数上来看 , 对标的其实就是台积电的7nm芯片技术 。
而随着中芯在芯片技术上的突破 , 我国芯片行业也迎来了新的曙光 , 因为根据相关消息表示 , 中芯这次的N+1工艺将有望在2021年开始实现小规模的量产情况 , 这也就意味着如果小规模量产成功 , 我国在芯片制造方面将会实现突破 。 未来等待技术成熟并且加以改进 , 只要排除掉美国的相关技术 , 其实华为目前所遇到的困境就能迎刃而解 。

一针“强心剂” , 华为也迎机会?
与此同时 , 在中芯突破了N+1工艺的时候 , N+2技术也开始有所进展 , 根据这个命名规则来看 , N+2对标的应该是目前台积电最新的5nm工艺 。 暂且不管中芯现在落后于台积电多长时间 , 单凭借着这个不用EUV光刻机就能生产7nm芯片 , 就给了国产半导体行业一针“强心剂” , 也是立了一个大功劳 。 想必这个消息也令特朗普始料未及 , 没想到国产芯片会如此强悍 。

我们一直都说EUV光刻机难做 , EUV技术是难题 , 但是我们却忽略的一个事实 , 既然EUV光刻机迟迟不给我们 , 那不用EUV光刻机就好了 , 中芯给我们展现出了一个更加完美的解决方案 , EUV技术并不是刚需 。 虽然照比台积电还有差距 , 但好在中芯一直都在进步 , 芯片国产化攻克了目前主要的难题 , 剩下的就是靠一些投入来实现发展了 。
【|国产芯片终迎希望,巨头突破难题,7nm芯片已提上日程】你认为中芯的这项技术如何?


    推荐阅读