光刻机|芯片光刻机的霸主，美国造不出的高端光刻机，反倒是这个欧洲的小国做到了
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这段时间华为的种种遭遇 ， 可谓是令我们国人心酸 ， 而华为前进的阻力又离不开其中相当重要的芯片 ， 把控着手机的命脉 ， 谁能掌握制造芯片的高端技术 ， 谁就能抓住话语权 ， 不用担心被别人制裁 ， 而制造芯片则需要光刻机
想必很多人会觉得 ， 此类高端技术美国是不在话下的 ， 那你就错了
高端光刻机美国是制造不出来的 ， 反而是这个欧洲的小国掌握着这个技术
【光刻机|芯片光刻机的霸主，美国造不出的高端光刻机，反倒是这个欧洲的小国做到了】想要造一台光刻机可谓是比造原子弹还要难啊
这个能造出全世界高端光刻机的小国就是‘荷兰’
那又会有小伙伴有疑问了 ， 凭什么是欧洲这个小国荷兰呢 ， 竟然做到了连科技霸主美国都没有做到的事
因为他敢赌 ， 这家公司刚成立时 ， 就遭遇了 日本芯片巨头‘尼康’和‘佳能’的双重夹击 ， 由于不被母公司‘飞利浦’重视 ， 员工只能在板房里办公 ， 一出门看到的就是一只巨大的垃圾桶
在坚持了十来年之后 ， 命运之神突然眷顾了这家公司 ， 当时的光刻机市场出现了一个前所未有的瓶颈 ， 65nm的芯片制造工艺迟迟无法突破 ， 导致芯片性能的进化也大大受阻 ， 这时日本双雄选择的技术路线是继续走稳健道路 ， 采用波长更短的157nm的激光光源
更年轻的阿斯麦决定放手一搏 ， 压上全部身家押注一种更为激进的技术 ， 那就是‘浸润式光刻机’当时来自中国台湾的一名工程师林本坚 ， 向阿斯麦提出以水为介质可以制造出浸润式光刻机 ， 在镜头与晶圆曝光区域之间充满高折射率的水 ， 水对193nm的紫外光折射率为1.44 ， 从而实现在水中等效波长为134nm 。 有望一举实现45nm以下制程
浸润式光刻机原理
阿斯麦抓住了这个关键的技术转折点 ， 经过三年攻关 ， 浸润式光刻机终获成功 ， 这个大胆的押注可以说是阿斯麦的诺曼底之战 ， 阿斯麦赢了 ， 市场占有率由25%攀升至80%
所谓大赌才能大赢 ， 人生也往往如此 ， 现在芯片厂商用的高端光刻机90%都是阿斯麦生产的 ， 台积电和三星每年为此抢破了头
下一期我们来讲讲美国为什么造不出高端光刻机 ， 难道他们甘心吗 ， 没想过反击吗 ， 也看看他们在光刻机产业上的布局
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