芯片|好消息！国产芯片材料再次“破冰”，打破美、日垄断局面光刻胶|南大光电|半导体|重器

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光刻胶近段时间以来，有关国内半导体的话题热度一直在上涨。主要还是因为华为受到了美国的芯片制裁，考虑到国内半导体的发展情况，国家也开始重视半导体集成电路。先后将集成电路列为一级学科，然后提出了芯片企业免税10年的政策。

从这些迹象都可以知道，中国已经开始在半导体集成电路领域，全速迈进。不过要想实现中国芯片的复兴，需要的不只是人才，资金，还要有技术，材料。
别的暂且不说，在材料方面，一直都是被国外垄断，尤其是日本掌握了70%的芯片制造材料——光刻胶。

光刻胶被广泛运用在集成电路领域，作为制造芯片的必要材料，把光刻胶以液态涂抹在硅片表面，然后被干燥成胶膜。在发光二极管、微机电系统、太阳能光伏以及封装等方面，都需要用上光刻胶。

所以光刻胶的重要性不言而喻，光刻胶被掌握在国外企业手中，我国在该领域的发展企业并不多。但是不多并不代表没有，好消息，我国的南大光电在光刻胶领域取得了突破，国产芯片材料再次“破冰” 。

打破垄断南大光电专注经营微电子材料的研发，生产，拥有国内60%到70%的市场份额。这一次，南大光电ArF光刻胶实现7nm工艺应用，研发的ArF光刻胶走向了客户测试阶段。

可能有些人不了解这次破冰带来的意义，其实这意味着我国在ArF光刻胶技术领域上再次取得了重大进步。而且是在7nm中高端芯片领域上，将来我国一旦掌握了相应的7nm制程工艺，再加上南大光电的7nm ArF光刻胶，将打破美、日垄断局面。
在自己的市场上，被别人垄断，中国14亿人口，庞大的市场下应该有属于自己的市场地位。

垄断会带来怎么的影响呢？被垄断说明在这个市场上，一切的规则，定价都要顺从垄断者。提升价格是很正常的事情，只有市场上出现了制约的力量，才能打破垄断的局面。

所以南大光电出现了，目前南大光电正处于光刻胶样品验证阶段，可能需要一年以上。因为ArF光刻胶开发技术难度大，工艺要求高，所以还需要一段时间的稳定。
这是一个过渡阶段，每一个过程都是为了最终的一鸣惊人，时间对中国半导体来说，比金钱更珍贵。给他们足够的时间，静下心来搞科研，相信还能取得更大的突破。

总结像南大光电这样的半导体企业还有很多，整个的芯片生产环节是很负责的。从设计到制造，制造以后还有封装，测试以及销售等等。单单是制造这一项流程，又涉及到光刻机、光刻胶等等。
甚至光刻机的一个零部件就是一个企业，一条生产线。这不是容易的事情，但是我们一定不会放弃，直到取得最后的成功。
对这次国产芯片材料的破冰你有什么看法呢？欢迎在下方留言分享。