光刻机|好消息!我国新型光刻设备问世,解决多项被国外“卡脖子”技术!


光刻机|好消息!我国新型光刻设备问世,解决多项被国外“卡脖子”技术!
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【光刻机|好消息!我国新型光刻设备问世,解决多项被国外“卡脖子”技术!】
光刻机|好消息!我国新型光刻设备问世,解决多项被国外“卡脖子”技术!
芯片作为5G的“心脏” , 在未来必然成为全球高端科技的大脑 , 而在芯片制造领域 , 我国一直被外国企业和科技“卡脖子” , 特别是在高端芯片制造方面 , 我国由于“入行”时间尚短 , 加之全球先进的芯片光刻机生产也是集合了全球的技术 , 并非一国能够完成 , 而我国要靠一己之力完成全球科技集中才能研发出来的光刻机 , 必然不是短时间内能完成的 。 但是 , 我国的芯片制造技术一直在努力向前 , 我国科研工作者奋战在一线 , 日以继夜的工作 , 终于传来了好消息!我国最新型光刻设备问世 , 解决了多项被国外“卡脖子”的技术!
据IT之家7月28日报道 , 我国著名科技集团 , 苏大维格科技官方宣布 , 大型紫外3D直写光刻设备iGrapher3000目前正式下线并开始投入到工业运行 。 据苏大维格科技表示 , iGrapher3000是一款主要应用于大基板上的微纳结构形貌的3D光刻 , 是先进光电子器件的设计和制造、最新型材料的研发和制造的最新平台 , 堪称是光电子产业的基础性装备 , 这项技术的突破为产业间的合作创造了全新的机遇 。
据了解 , 在传统芯片制造领域 , 光刻机分为两种类型:其一种是投影光刻机 , 这种光刻机是在硅片上将将光掩模图形缩微并光刻上去 , 从而制备集成电路图形 , 这种光刻机目前以日本的Nikon投影光刻机为代表 。 第二种则是直写光刻机 , 这种光刻机主要用在0.25微米和以上节点的芯片以及0.18微米节点和以下的光掩模版制备 , 而这种光刻机就是以美国应用材料公司的ALTA 光刻机和瑞典的Mycronic公司Prexision10激光直写光刻系统为代表!
在苏大维格的浦东林博士带领下 , 科研人员经过十多年的刻苦钻研 , 经过多轮迭代更替 , 不断从失败中吸取教训 , 终于攻克了3D光刻的重大瓶颈 , 研制成功了以这款iGrapher3000为代表的系列紫外3D直写光刻装备 , 并且得以在工业界得到普遍应用 。 对于这样的贡献 , 在今年初的国家科技奖励大会上 , 荣获国家科技进步奖二等奖!


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