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华为有救了？中科院宣布的5nm光刻技术，让大家“空欢喜”一场

众所周知 ， 一款5nm芯片想完成批量生产最重要的有两个点：设计构思和制造 。
就设计构思来讲 ， 实际上现已有许多生产商可以实现 ， 但是苦于沒有制造专业能力 ， 需要寻找生产商 。
而全世界仅有的几个生产商 ， 也需要依靠美国的工艺批量生产 ， 例如台积电、三星 。
这也造成它现在需用使用别的集成ic ， 上半年以来现已有几款新公布的智能手机与联发科相互合作 ， 尽管性能指标也算得上出色 ， 但自始至终令人觉得差了那味 。
就在大家认为华为公司的将来不明确时 ， 网络上全部都在争先恐后地加入欢呼雀跃：中科院在5nm光刻机上拥有了重大进展、中国拥有了自个的5nm光刻机、华为公司有救了这些讯息 。
由于ASML的极紫外光刻技术已经特别先进 ， 中科院为了能做到这一效果 ， 需用选用这一有所不同的方法 ， 期待能够追逐上ASML 。
乍一看来 ， 好像中科院这一讯息就是雪中送炭 ， 下一步就坐等我们一步步的的产品研发 ， 那时候让我们产生更大的惊喜大礼 。
前提大伙儿要明白 ， 中科院的这一工艺 ， 最终的目的是为了能完成纳米狭缝电极列阵构造的规模化制造 ， 事实上并不是集成电路 ， 因此根本就并不是指芯片制造 。
并且现在中国的光刻机也仍在90nm这一阶段 ， 也只能用于90nm集成ic的制造 ， 可以说是智能手机中的"低端机" 。
ASML则是当今最強 ， 现已能够用以5nm的制造 ， 二者中间距了基本上十年之上的技术难度 。
中科院这一工艺 ， 根本就没有提及光刻机的事情 ， 因此并不意味着具有了5nm光刻机的生产力 。
此外 ， 我们还特别强调 ， 此项工艺仅仅在试验环节 ， 要完成商业 ， 还需用很多的费用和时长 ， 自然 ， 产品合格率也是能不能做到标准化的关键指标值之一 。
【华为有救了？中科院宣布的5nm光刻技术，让大家“空欢喜”一场】虽然这个消息让大家“空欢喜”一场 ， 但是最起码就并不是件坏事 ， 大家能见到中国在光刻工艺上的发展 ， 这就是一件非常值得开心、非常值得庆贺的事儿 ， 期待国内工艺愈来愈强劲 ， 尽早摆脱被他人束缚的场面 。


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