光刻机技术被突破！中科院传来好消息，美国要大失所望了
近期 ， 中科院向社会公布了最新的研究成果 。 中科院5nm光刻机的研究已经进入了新的阶段 。 这一消息的传出 ， 振奋了所有为科技努力以及对中国科技抱有期待的人 。
5nm光刻机设计到芯片的制造 ， 与现在我国正在使用的90nm的芯片产品相比 ， 5nm光刻机技术领先了将近10年的时间 。
上世纪50年代 ， 第一个集成电路在德国安放到了半导体材料上 。 自此 ， 科学家们开始加快了在半导体材料上安放芯片的研究 。 我国在60年代也成功地研制出了第一个硅基数字集成电路 。
面对强有力的对手 ， 如果仅仅是舆论造势显然不能支撑科技企业的持续发展 ， 掌握专利技术的多少才是科技企业的命脉 。
芯片自出现到现在经历了人们想不到的发展路程 ， 未来如何发展 ， 还是掌握在研究人员的手中 。 除了此次5nm技术的突破 ， 中科院也公布了在超高精度激光光刻技术方面的突破 。
【光刻机技术被突破！中科院传来好消息，美国要大失所望了】科技兴国靠的是历代中国人勤勤恳恳不懈的工作 ， 最近新技术突破的消息不断 ， 这就给正在备受打压的中国科技企业打了一剂强心剂！
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