国产光刻机若想弯道超车，需要克服3大难题，才有望打破ASML垄断
上海微电子作为我国唯一的光刻机巨头 ， 如今拥有的直接持有专利与专利申请数量已达3200件 ， 一年的光刻机出货量超50台 ， 表现令人瞩目 。 但上海微电子当前只能在低端光刻机领域徘徊 ， 在高端领域仍是无法突破ASML的垄断 。 虽然上海微电子表示 ， 将在2021到2022年交付28nmimmersion式光刻机 。
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【国产光刻机若想弯道超车，需要克服3大难题，才有望打破ASML垄断】但与目前已能生产5nm芯片的ASML高端光刻机相比 ， 仍有着难以超越的差距 。 光刻机因极高的研制难度 ， 狠狠地卡住了我国芯片行业的脖子 ， 成为我国想要实现芯片安全可控 ， 必须推翻的一睹大墙 。 国产光刻机若想要弯道超车 ， 需要克服3大难题 ， 才能有望打破ASML的垄断 。
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首先 ， 需要突破的便是技术垄断 。 ASML成立于1984年 ， 至今已有36年的时间 。 在这三十多年里 ， 与光刻机有关的必要技术 ， 都已被ASML收入囊中 ， 从而形成技术垄断趋势 。 而中国光刻机企业想要从一片空白中突破重重技术壁垒 ， 绕开ASML专利 ， 何其艰难 。 因此 ， 技术垄断是摆在中国企业面前的第一道坎 。
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其次 ， 美国对中国科技企业的重压 ， 更是成为我国发展的一大阻碍 。 在2018年 ， 中芯国际便向ASML订下了一台光刻机 ， 而是如今两年已经过去 ， 在此期间ASML交付了数十台光刻机 ， 却唯独没有中芯国际的份 。 在这背后 ， 离不开美方的挑唆 ， 而中芯国际的芯片工艺也因此被拖后 。
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美国在芯片代工领域如此 ， 而在光刻机领域更是不会放任中国企业的发展 。 中国光刻机领域行业发展之路本就曲折 ， 还有美国的阻碍 ， 前路更是泥泞 。 而且 ， 就算在我国高端光刻机取得了突破 ， 还是要提防美国 。 华为便是一个典型的例子 。
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最后 ， ASML光刻机的完成是依靠全球领先科技企业的共同努力 。 ASML一台光刻机要用到10万件零件 ， 其中 ， 90%都由其他国家企业提供 。 由此可以看出 ， 光刻机的生产需要集结全球的力量 。 虽然我国光刻机没有必要拿下所有相关技术 ， 但核心技术还是要掌握在自己手中 。
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这就需要全国半导体企业的共同努力 ， 仅靠一家公司完全不可能打破ASML的垄断 。 由此看来 ， 我国光刻机行业的发展道阻且长 ， 需要不断的突破与完善产业链 。
你认为 ， 国产光刻机的发展 ， 还有哪些阻碍？
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