辛德蕾拉|原来曾经拥有，光刻机—华为唯一大陆之外的制约文|王耀华

文|王耀华
美国对华为的技术封杀卡不死华为，高通的芯片， Android的系统,甚至最底层的ARM的构架，华为都有备胎，或者有所准备。然而还是非常庆幸台积电愿意继续供货，这样最新一代麒麟985系列的芯片就不会出问题。这是华为唯一一项在大陆没办法解决的问题，所以确实是非常庆幸。
光刻机和航空发动机分别代表了人类科技发展的顶级水平，都是公认的工业皇冠上夺目的明珠。所谓光刻机，原理实际上跟照相机差不多，不过它的底片是涂满光敏胶（也叫光刻胶）的硅片。各种电路图案经激光缩微投影曝光到光刻胶上，光刻胶的曝光部分与硅片进行反应，将其永久的刻在硅片上，这是芯片生产的最关键步骤。由于光刻机在芯片最后的封装，以及平板显示器件生产都可以用到，所以这里的光刻机一般特指芯片生产的前道光刻机。
目前世界上最先进的光刻机是荷兰的ASML ，这是菲利普分离出来的一个公司，在这个行业一家独大。这个设备配上台积电的工艺，能够做出7纳米级别的芯片。中芯国际以1.2亿美元向ASML订购了一台紫外光刻设备，贵不是重点，重点是他们的设备很长时间对中国是禁运的，这是第一次买到。计划是2019年卖给中芯国际最后一代的光刻机，但ASML工厂去年年底失火了，导致交货延迟，所以这个设备现在还没到手。收到之后还需要一定的时间熟悉工艺，才能实现7纳米的量产。失火这个事刚好和华人科学家张首晟自杀，孟晚舟被绑票同时发生，引发了很多猜测，这里不多说了。
【辛德蕾拉|原来曾经拥有，光刻机—华为唯一大陆之外的制约】再次拾起光刻机的研发是大约二十年后的2002年，有人意识到了核心技术是买不来的之后。目前中国在这个领域最先进的自主研发科技包括：2007年上海微电子研制出了我国首台90纳米高端投影光刻机，成为世界上第四家掌握高端光刻机技术的公司。去年底国家重大科研装备研制项目“超分辨光刻装备研制”通过验收。它由中国科学院光电技术研究所研制，光刻分辨力达到22纳米，结合双重曝光技术后，未来还可用于制造10纳米级别的芯片，当然未来有多远，还不知道。

辛德蕾拉|原来曾经拥有，光刻机—华为唯一大陆之外的制约

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