充电宝|我国的光刻机5纳米生产技术要多久才能突破？
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如今5纳米 ， 7纳米 ， 10纳米指的是芯片的制程工艺 ， 而不是光刻机 ， 光刻机并没有制程工艺一说 ， 只有制造芯片的制程范围 。 5纳米制程工艺属于EUV光刻机的加工范畴了 ， 但是用DUV光刻机也可以加工出来 ， 只不过太耗时 ， 耗力了 。
【充电宝|我国的光刻机5纳米生产技术要多久才能突破？】
要知道国内可以生产28纳米制程工艺的DUV光刻机还没有交付 ， 就更别说可以生产5纳米制程的EUV光刻机了 。 在高端光刻机领域 ， 国内与国际还有不小的差距 。 台积电是在2011年首先完成28纳米制程工艺的 ， 国内最先进的中芯国际是在2015年完成28纳米工艺制程的 。 世界上首台浸没式DUV光刻机是在2004年制造出来的 ， 而国内也只有到2021年左右才可以制造出浸没式DUV光刻机 ， 这前后相差了16年 。 另外呢 ， ASML的EUV光刻机是在2015年被制造出来的 ， 这差距一下子就被拉大 。
再来看看前段时间出现的5纳米光刻技术 ， 严格来说 ， 这是用激光直接在底板上刻画 ， 不用掩膜 ， 不用抽真空 。 但是速度太慢了 ， 远没有光刻机制造芯片的速度快 。 激光光刻技术可以在一小时内加工50000个纳米狭缝电极 。 而光刻机加工的可不止这点啊 ， ASML的光刻机可以再去1小时内加工出来120片12英寸的晶圆 。
一般来说12寸的晶圆可以制造500个左右的芯片 ， 那么可以大概算一下 ， ASML的光刻机一个小时可以生产出6万个芯片 ， 而一个芯片中的晶体管高达上百亿个 。 由此可知光刻机的加工制造能力可不是激光直写技术可以比的 。 所以说 ， 激光直写的5纳米光刻技术 ， 离实用化 ， 商业化还比较远的 。 最起码现在的芯片制造 ， 缺乏光刻机还是不行的 。 国内光刻机技术还有很长的一段路才能追上国际先进水平 ， 至于具体的时间 ， 这个还是比较难说的 。 关键是EUV光刻机的制造需要国内各种精加工的突破 。
目前来看国内EUV光刻机的发展也不慢 。 由哈工大负责研发的DPP光源的功率接近了125W ， 而样机在2016年就被制造了出来 ， 其他的双工件台 ， 镜头组也有研发单位且进度也不慢 ， 所以说国内EUV光刻机也再稳步的研发之中 ， 还是慢慢等待吧 。
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