芯片|国产芯片未来可期，中国巨头攻克技术难题，造出芯片生产的关键设备
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【芯片|国产芯片未来可期，中国巨头攻克技术难题，造出芯片生产的关键设备】
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中国作为芯片需求大国 ， 每年都要用数以千亿计的资金 ， 从海外进口芯片 。 而面对如此庞大的市场 ， 自然是有国内厂商不甘心将其拱手相让 。 因此 ， 最近两年国内芯片产业发展十分迅速 ， 虽然在关键设备制造方面 ， “国产货”和“进口货”还存在一定的精度差距 ， 但国内厂商也在不少方面克服技术难题 ， 打破行业垄断 。
高能离子注入机便是其中之一 ， 该设备是生产高端芯片的关键 ， 重要性不亚于用户熟知的光刻机 。 当然 ， 高能离子注入机制造难度也相当大 。 从功能上来讲 ， 高能离子注入机的作用在于将不同剂量的元素注入到已经被光刻机完成复刻的晶体管中 ， 这一过程涉及深度、角度等多种计算 ， 稍有偏差芯片就会直接报废 。
目前在国际上实现商用的只有德国芮玛能制造出600万伏PRHEI6Me高能离子注入机 ， 包括美日韩等国家在内 ， 所有厂商生产高端芯片所使用的高能离子注入机设备都来自德国芮玛公司 。 不过 ， 中国电子科技集团最近发布的一项研究成果 ， 却有望打破德国芮玛在该领域的垄断 。
据新华社报道 ， 中国电子科技集团已经成功自研出高能离子注入机 ， 并且还实现了百万电子伏特的高能离子加速 。 相比之前 ， 可以说是实现了突破性发展 ， 凭此技术 ， 中国电子科技集团有望造出芯片生产的关键设备 ， 国产芯片发展未来可期 。
当然 ， 也要认清目前我国自主研发的高能离子注入器与德国芮玛公司所生产600W伏高能离子注入机还是有着一定差距 ， 我国自主研发的设备很难达到600万伏高度 。 不过 ， 我国芯片产业目前也不需要有如此高端的设备存在 ， 毕竟国内芯片生产巨头中芯国际芯片最高精度不过14nm ， 一般的高能离子注入机足够满足国产厂商使用需求 。
中国电子科技集团此次技术突破更像是在为未来做准备、打基础 。 目前我国蚀刻机技术和高能离子注入机技术都达到世界一流水准 ， 一旦光刻研发工作迎来技术突破 ， 我国芯片产业发展势必会迎来大跃进 。 未来 ， 直接实现高端芯片自给自足生产也不会有任何问题 。
你对未来国产高能离子注入机发展情况有何看法？不妨谈谈你的观点 。
文/JING 审核/子扬 校正/知秋
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