光刻机|“中国芯”获历史性突破！中科院：5nm技术破冰！可绕开光刻机
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2018年 ， 美国对中兴实施掐喉式制裁 。 由于芯片被断供 ， 导致中兴在一夜之间陷入瘫痪 。 该起事件 ， 也成为吹响发展“中国芯”的集结号 。
时至今日 ， 中美贸易战持续升温下 ， 中美科技战也在激烈进行 。 今年5月15日 ， 美国商务部再次宣布 ， 将在全球范围内 ， 对华为半导体供应链进行限制 。 这一次 ， 美国针对的不仅仅是华为 ， 而是整个中国半导体产业 。 按照实际情况 ， 中国半导体产业与世界一流水平 ， 还是有着一定的距离 。 但是 ， 在这两年的时间里 ， 中国半导体产业的持续性突破 ， 让世人为之震撼 。 近日 ， 中国芯再次传来好消息 。 我国团队研发出全新技术 ， 获奖绕开新品量产最大的门槛——EUV光刻机 。
【光刻机|“中国芯”获历史性突破！中科院：5nm技术破冰！可绕开光刻机】
前不久 ， 中科院苏州纳米所研究院张子晹团队与国家纳米中心刘前合作 ， 研发出全新炒高精度5nm芯片直写技术 。 这是一种全新的三层堆叠薄膜结构 ， 在无机钛膜光刻胶上采用双激光束交叠技术 ， 通过精确控制密度和步长 ， 实现最小5nm的特征线宽 。 用最直白的话来说 ， 我国已经实现了绕开EUV光刻机 ， 量产芯片的技术 。 众所周知 ， 荷兰的ASML是全球最大的光刻机生产厂家 。 其所生产的EUV光刻机 ， 是高端芯片无法避开的制造设备 。 在美国对中国发起科技战的背后 ， 中国光刻机被掐脖 ， 迟迟未能交付 。
今年5月15日 ， 美国商务部再次修改出口规则 ， 让中国芯陷入了前所未有的危机感 。 这一次 ， 中科院所发布的这项全新技术 ， 可以说是历史性的！今年 ， 将是5nm芯片的问世之年 。 在更高制作标准的工艺上 ， 我国目前虽然没有赶上 ， 但是在市场中 ， 我们做到了 。 这种技术不仅绕开了EUV光刻机 ， 还降低了器件的制造成本 。 一旦该技术成熟 ， 那么中国将彻底改变全球半导体产业链的现状！而华为 ， 则将彻底摆脱美国对其新品管制 。
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