华为|华为高端芯片有救了？中科院正式宣布，网友：任正非说的对芯片|光刻机|任正非

【华为|华为高端芯片有救了？中科院正式宣布，网友：任正非说的对】

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2020年5月美国升级打压措施之后，华为5nm麒麟芯片制造成了大难题。全世界转了一圈都没有一家制造商能够承接华为芯片的制造任务。目前全球EUV光刻机垄断在ASML手里，而国内最先进的光刻机刚刚突破28nm ，距离先进的5nm距离还是有点大。

中科院5nm光刻技术取得突破由于ASML的EUV光刻机对中国进行技术封锁。近段时间来，光刻机成了大家关注的焦点，网络上只要出现关于光刻机的消息都能迅速引起网友们的关注。 7月7日中科院爆出消息：中科院研究团队掌握了一种新型5nm超高精度激光光刻加工方法。一时间这个新闻成为全网的热点，国内外媒体纷纷追寻中科院在5nm光刻领域到底取得了什么样的突破。

要知道前几天全网还是中国被“卡脖子” ，没办法获得5nm光刻机。现在一转眼我们就取得了突破，能不让人兴奋吗？

5nm光刻技术新突破是由中国科学院苏州纳米所张子团队与国家纳米中心研究员刘前共同合作进行研发，目前成果已经发表成论文。大致内容是：

基于光热反应机理设计开发了-种新型三E层堆叠薄膜结构。在无机钛膜光刻胶上，采用双激光束(波长为405nm)交叠技术，通过精确控制能量密度及步长，实现了1/55衍射极限的突破(NA=0.9)，达到了最小5nm的特征线宽。

简单来说就是利用超分辨的激光直写技术，实现了纳米狭缝电极阵列结构的大规模制备。

华为麒麟芯片有救了？中科院掌握的这种新技术和上面提到的EUV光刻机工作原理并不一样。这次中科院苏州纳米所5nm突破的是超分辨的激光直写技术。这种技术是控制激光位移和能量进行直接刻，它的效率非常低，可以用来在芯片开发阶段出一些打样。如果做大规模制造非常不经济。

而大批量的生产芯片需要有掩膜的光刻机投影光刻，就是类似ASML的EUV光刻机。所有苏州所5nm光刻技术新成果暂时没办法拯救华为。

最后
虽然中科院的这个突破暂时没法解决国产高端光刻机的问题，但是这种突破却能带动更多团队深入研究芯片制造工艺。华为任正非曾经说过：中国芯片制造的问题在于缺钱更缺人才。从中科院这次的成果就可以看出，任何技术只要有人才都是可以突破的。而中科院正好是中国高尖端人才聚集的地方，关键在于怎么用而已。

当然突破封锁不能只凭一腔热血，商业光刻机号称人类工业的结晶，涉及到整个产业链的上下游，包含材料、光学、机械等。这些领域光靠尖端人才肯定是解决不了的。正确的做法是每一个环节都由尖端的科研院所联合配套的企业共同研究。

光刻机的路很长，但是除了胜利我们没有其他路可以走。