芯片|中微突然宣布！中国芯片将“弯道超车”？尹志尧无奈说出实情
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但是多亏了中国台湾省的张汝京先生 ， 2000年左右自筹资金 ， 带领科研团队 ， 利用自己在美国的人脉拿到了美国的许可证 ， 购进了一批半导体设备 ， 在中国的上海建立了一家公司 ， 叫中芯国际 。
无奈张汝京先生因为是中国台湾人士 ， 被多次处罚 ， 最终是出走中芯 。 但是不管怎么样 ， 年轻的中国半导体产业总算是起步 ， 到发展了二十年 ， 但是在芯片制造的整个环节 ， 跟西方最先进的水平还差了二十年左右 。
【芯片|中微突然宣布！中国芯片将“弯道超车”？尹志尧无奈说出实情】可是随着国家大基金等不计成本地投入 ， 似乎取得了不小的进步 。 比如上海微电子可以制造出用于生产28nm的光刻机 ， 光刻机制造技术赶超了日本佳能；江苏南大光电生产的193nm的ArF光刻胶 。
最重要的是中微研发5nm的蚀刻机器成功 ， 所以有很多人都在说中国的半导体“弯道超车” ， 但是真的是这样吗？
理想很美好 ， 现实很骨感首先是上海微电子的光刻机 ， 虽然赶超了日本佳能 ， 跟日本的尼康处于同一水平 ， 但跟最先进水平的荷兰阿斯麦（ASML）的差距还是巨大；阿斯麦制造出来的最先进的光刻机 ， 目前可以生产5nm的芯片 ， 制程工艺提升还能制造2nm、3nm的芯片 。
其次就是光刻胶 ， 江苏的南大光电还是很了不起的 ， 制造出了用于ArF光源的光刻胶 ， 直接打破了日本的垄断 ， 弥补了国内的空白 ， 但是最先进的光刻胶是EUV光刻胶 。
最后是中微的蚀刻机 。 蚀刻机只是光刻机的零部件 ， 但是尹志尧博士还是很了不起的 ， 用了16年的时间 ， 带领团队不断地攻关 ， 跟踪国际最新动态 ， 蚀刻设备是世界一流的水准 ， 而且被最大的芯片代加工厂台积电认可 ， 并投入使用 ， 是仅次于阿斯麦的供应商 。
可是尹志尧博士也无奈说出了实情 ， 蚀刻机只是“画家” ， 难度说大不大 ， 真正难的是“画家” 。 意思是蚀刻机还不是最难的 ， 最难的是操控蚀刻机同步运作 。 这个难度就好比 ， 两个人各自站在一架超音速飞行的飞机上 ， 手上拿着一支笔要画出相同的东西来 。
左：尹志尧
而且蚀刻只是芯片制造流程上的一个环节 ， 在将硅晶圆切割成圆薄片后 ， 涂上光刻胶之类的材料 ， 这时候由光刻机进行光刻 ， 使到光刻材料发生光敏作用 ， 光刻完了以后再由蚀刻机将“电路”腐蚀出来等等 ， 所以难的不是蚀刻 ， 可是光刻的精度 。
总结原本以后 ， 中微能够带来真正的好消息 ， 没想到 ， 尹志尧无奈说出了真相 ， 现实就是这么残酷 ， 除了蚀刻机以外 ， 中国的半导体技术全面落后 。
的确 ， “弯道超车”的确是言之过早 ， 但是也不要妄自菲薄 。 就像任正非接受才采访说的那样 ， 实际上 ， 中国的芯片是被卡脖子不假 ， 但是华为情况没有想象中的那么危险 ， 因为华为出来手机等终端被美国卡芯片以外 ， 其他基本上都可以自供 。
而且任正非认为这个终端的芯片问题 ， 华为在未来的两到三年里是可以取得突破的 ， 问题很快会被解决 。
而且最近中芯国际等在获得了国家大基金等投资以后 ， 整个中国半导体的面貌焕然一新 。 所以别怕 ， 总有一天会“弯道超车”的 。
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