光刻机行业研究——国产光刻机产业链
重中之重 ， 前道设备居首位 。 光刻机作为前道工艺七大设备之首（光刻机、刻蚀机、镀膜设备、量测设备、清洗机、离子注入机、其他设备） ， 价值含量极大 ， 在制造设备投资额中单项占比高达23% ， 技术要求极高 ， 涉及精密光学、精密运动、高精度环境控制等多项先进技术 。 光刻机是人类文明的智慧结晶 ， 被誉为半导体工业皇冠上的明珠 。
【光刻机行业研究——国产光刻机产业链】冲云破雾 ， 国产替代迎曙光 。 目前全球前道光刻机被ASML、尼康、佳能完全垄断,CR3高达99% 。 在当前局势下 ， 实现光刻机的国产替代势在必行 ， 具有重大战略意义 。 在02专项光刻机项目中 ， 设定于2020年12月验收193纳米ArF浸没式DUV光刻机 ， 其制程工艺为28纳米 。 考虑到此项目作为十三五目标 ， 未来具有较大的明确性 ， 结合28nm作为当前关键技术节点的性能和技术优势 ， 我们认为光刻机国产替代将迎来新的曙光 ， 尤其是IC前道制造领域 ， 将初步打破国外巨头完全垄断的局面 ， 实现从0到1的突破 。
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来源：方证证券
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