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中芯国际、联发科宣布无法给华为提供帮助，中国真的造不出光刻机？

随着美国制裁升级 ， 原本能为华为提供半导体的中芯国际、联发科宣布两则消息 ， 澄清网传联发科与华为合作芯片之事是谣言 ， 并表示会遵守全球贸易法令 ， 而中芯国际也在5月出口规则中也表示 ， 在没有美国方面授权 ， 不会为用户生产芯片产品 ， 从这两则消息中可以看出 ， 因为美国的缘故 ， 中芯国际和联发科都无法给华为提供帮助 。
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此事也说明我国在半导体领域的不足 ， 基本依靠美国设备和技术 ， 而其中最关键的就是光刻机 ， 中芯国际曾坦言由于没有高端光刻机 ， 目前制造工艺只能达14nm工艺 ， 而7nm工艺研发也极为缓慢 ， 在5nm工艺更没有进展 ， 目前全球只有台积电能做到 。 中芯国际曾向荷兰ASML购买过高端光刻机 ， 当到了2019年依旧没有交付 ， 其中就受到美方阻挠这也导致中芯国际在发展7nm工艺道路上越走越慢 。
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有朋友就好奇 ， 难道中国没有自主研发光刻机？其实在能力上 ， 中国是完全可以造出光刻机的 ， 但只是低精度的光刻机 ， 而高精度光刻机则没有办法 ， 因为在技术方面受到西方的限制 ， 另外就是技术要求 ， 即便是科技强国美国和日本也无法自研高精度的光刻机 ， 而荷兰ASML之所以能研发高端光刻机 ， 除了设计图纸外 ， 90％元件都需要从国外进口 ， 像日本特殊复合材料、瑞典精密机床技术等等 。
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而ASML公司高管就坦言：“即使公开图纸 ， 也不怕被山寨”
这也说明高端光刻机在制造方面难度之大 ， 那么早前被冠以“宇宙最强山寨”的中国能做到？不能 ， 就算能 ， 美国不会给我们机会 ， 因为他不想看到中国掌握到高端科技技术 ， 另外就是光刻机本身要求高 ， 90％的元件都需要进口 ， 单凭这几点就很难了 ， 毕竟西方限制设备出口 ， 中国很难在全世界购买所有光刻机元件 。
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既然知道制造光刻机这么难 ， 那我们还有必要去研发光刻机？很有必要 ， 光刻机是制作芯片主要设备 ， 如果想研发最新工艺的芯片就需要光刻机 ， 而经过多年努力 ， 我国上海微电就成功研发出90nm精度的光刻机 ， 虽然跟荷兰ASML高端光刻机比还有些差距 ， 但至少能在西方限制芯片供应时 ， 帮助国内半导体工业渡过难关 。
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不过目前制作一台先进的光刻机 ， 所需的零部件差不多接近10万个 ， 另外光调试和组装就需要大量工作人员 ， 如果中国真的能自主研发出光刻机 ， 那么就意味着中国科技工业已经站在世界之巅 ， 当然 ， 现在的中国工业技术还无法做到 ， 但随着科技进步 ， 中国会逐渐实现光刻机国产化 ， 并且突破西方技术封锁 。
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